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铝镓氮材料的制备及其光电性能的研究
作 者: 石侃州
导 师: 王雪文
学 校: 西北大学
专 业: 电子与通信工程
关键词: 溶胶-凝胶法 AlxGa1-xN 密度泛函理论
分类号:
类 型: 硕士论文
年 份: 2013年
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内容摘要
半导体纳米材料是当今材料学研究最重要的一部分,其优异的特性决定了它巨大的发展潜力。以Ⅲ-Ⅴ族化合物材料为代表的第三代半导体材料,具有直接带隙、高电子迁移率和高热导率、稳定的物理和化学性质使其成为各国科研人员研究的热点。AlxGa1-xN作为Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,其禁带宽度可以在3.4eV(GaN)到6.2eV(AlN)范围之间连续可调,截止波长可覆盖200nm-365nm波段范围,是制作紫外发光二极管(LED)和紫外探测器的理想材料[1]。本文在基于溶胶-凝胶法和高温氨化法两步法基础上,分别选取硝酸镓为镓源,硝酸铝和氯化铝为铝源,氨气为氮源,柠檬酸为络合剂,通过添加适量的催化剂和改变实验工艺条件,制备出AlxGa1-xN(0≤x≤1)。对于所制备出的样品,用XRD分析、SEM分析测试其成分、结构和表面形貌,用PL谱分析、椭圆偏振光谱分析测试其光致发光和光学特性,用HaLL分析测试其电学特性,结果表明制备出了GaN、AlN、AlxGa1-xN(0≤x≤1)薄膜材料和GaN纳米棒,并研究了其光学和电学性质的变化差异。采用第一性原理的密度泛函理论,用CASTEP软件包建立AlxGa1-xN(x=0.5)结构模型并进行计算分析,研究当引入单原子缺陷时其能带结构和电子态密度的影响,分析了其光电学性能随x的变化规律,结果与实验数据趋势一致,进一步证明了实验制备出的材料性能是可靠的。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-5 目录 5-8 第一章 绪论 8-14 1.1 引言 8 1.2 Al_xGa_(1-x)N材料概述 8-10 1.2.1 晶体结构 8-9 1.2.2 Al_xGa_(1-x)N的性质 9 1.2.3 Al_xGa_(1-x)N的研究进展及应用 9-10 1.3 本论文的选题意义和研究内容 10-14 第二章 GaN和AlN的制备方法及表征技术 14-24 2.1 氮化镓材料介绍 14-15 2.2 氮化镓材料的制备方法 15-18 2.3 氮化铝材料的介绍 18-19 2.4 氮化铝材料的制备方法 19-21 2.5 样品的表征方法及性能测试技术 21-23 2.5.1 金相光学显微镜 21 2.5.2 X射线衍射分析仪(XRD) 21 2.5.3 扫描电子显微镜(SEM) 21-22 2.5.4 能量色散型X射线荧光分析仪(EDS) 22 2.5.5 发光特性的测试 22 2.5.6 光学特性的测试 22 2.5.7 电学性能的测试 22-23 2.6 本章小结 23-24 第三章 GaN材料的制备及表征 24-34 3.1 实验设计 24-29 3.1.1 实验药品和实验仪器 24-26 3.1.2 衬底的选择及清洗步骤 26-27 3.1.3 溶胶的制备 27-28 3.1.4 涂镀 28 3.1.5 预处理 28 3.1.6 高温氨化 28-29 3.2 GaN的表征与分析 29-33 3.3 氮化镓(GaN)纳米线的生长机理 33 3.4 本章小结 33-34 第四章 AlN粉体和Al_xGa_(1-x)N的制备及表征 34-52 4.1 氮化铝(AlN)的制备及表征 34-36 4.1.1 氮化铝(AlN)的生长机理 34 4.1.2 实验设计 34-35 4.1.3 AlN粉体的表征与分析 35-36 4.2 Al_xGa_(1-x)N的制备及光电性能的研究 36-50 4.2.1 铝镓氮材料的制备 36-37 4.2.2 实验过程 37-38 4.2.3 反应产物的XRD分析 38-42 4.2.4 反应产物的SEM分析 42-46 4.2.5 Al_xGa_(1-x)N的光学性能的测试 46-47 4.2.6 Al_xGa_(1-x)N的光致发光 47-49 4.2.7 Al_xGa_(1-x)N电学性能的测试 49-50 4.3 本章小结 50-52 第五章 Al_xGa_(1-x)N材料的第一性原理计算 52-64 5.1 第一性原理介绍 52-53 5.2 密度泛函理论(DFT) 53-55 5.2.1 Hohenberg-Kohn定理 53 5.2.2 Kohn-Sham方程 53-54 5.2.3 交换关联能量 54-55 5.3 CASTEP软件简介 55 5.4 模型建立和计算方法 55-57 5.5 计算结果分析 57-62 5.6 本章小结 62-64 第六章 工作总结与展望 64-66 参考文献 66-72 致谢 72
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