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等离子体在多层挠性板中的应用
作 者: 倪乾峰
导 师: 袁正希
学 校: 电子科技大学
专 业: 材料科学与工程
关键词: 挠性印制电路板 金手指 正交试验 均匀设计方法 盲孔
分类号: TN41
类 型: 硕士论文
年 份: 2010年
下 载: 54次
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内容摘要
目前,挠性印制电路板的应用和发展可谓日新月异。但仍然存在一些工艺方面的重要问题需要解决。主要有挠性印制电路板金手指表面的清洁,补强板与挠性板的结合力以及盲孔制作方法的革新。本文将重点阐述利用等离子去解决上述问题,主要研究如下:1.研究等离子技术清洁挠性印制电路板金手指的基本原理,运用正交试验方法开发并优化等离子清洗金手指工艺,获得符合工业生产又兼顾清洁质量的最佳清洁工艺参数。2.利用等离子技术开发挠性板增强与补强技术。通过正交试验研究等离子对基板凹蚀的作用规律,并在此基础上研究等离子的凹蚀效果,开发出具有良好结合力的挠性增强补强板工艺。3.利用等离子开发在不同基板,如在PI(聚酰亚胺),聚酯,聚四氟乙烯等三种通用无胶双层挠性印制电路基板上制作200微米的盲孔工艺。运用均匀设计方法研究影响钻孔的多种因素,根据所得到的试验结果,通过数学近似,得出回归方程,为工业化应用提供理论指导。
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全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-9 第一章 绪论 9-23 1.1 挠性印制电路板的定义、特点和分类 9-12 1.1.1 挠性印制电路板的定义 9-10 1.1.2 挠性印制电路板的特点 10 1.1.3 挠性印制电路板的分类 10-12 1.2 挠性印制电路板的发展过程和应用 12-14 1.2.1 挠性印制电路板的发展过程 12-13 1.2.2 挠性印制电路板的应用 13-14 1.3 挠性印制板的制造工艺 14-17 1.4 挠性印制板的未来发展方向 17-18 1.5 等离子体 18-22 1.5.1 等离子体的产生 18-19 1.5.2 等离子体在挠性印制电路板中的应用 19-22 1.5.2.1 等离子的蚀刻作用 20 1.5.2.2 等离子的活化作用 20-21 1.5.2.3 等离子的清洁作用 21-22 1.6 本文的研究背景,意义以及创新性 22-23 第二章 等离子清洁金手指原理及工艺研究 23-45 2.1 金手指表面变色 23-25 2.1.1 金手指表面变色的原因 23-24 2.1.2 等离子清洗金手指表面的原理 24-25 2.2 等离子清洁金手指表面工艺研究 25-33 2.2.1 等离子清洁试验 25-28 2.2.2 实验结果与讨论 28-33 2.2.2.1 试验结果的分析 28-31 2.2.2.2 试验结果的检测 31-33 2.3 等离子清洁工艺优化研究 33-43 2.3.1 实验内容 33-34 2.3.2 实验结果与讨论 34-37 2.3.3 等离子清洁工艺优化研究的改进 37-43 2.3.3.1 等离子清洁试验 37-38 2.3.3.2 试验结果的分析 38-41 2.3.3.3 试验结果的检测 41-42 2.3.3.4 与传统方法的对比 42-43 2.4 小结 43-45 第三章 等离子凹蚀挠性板基板工艺及应用研究 45-59 3.1 等离子凹蚀原理以及在挠性板中的应用优势 45 3.2 等离子凹蚀挠性板基板的工艺研究 45-52 3.2.1 凹蚀各因素的交互作用 45-48 3.2.2 等离子凹蚀效果的验证试验 48-52 3.3 等离子凹蚀工艺在生产中的应用研究 52-58 3.3.1 等离子体凹蚀的应用试验 52-55 3.3.2 等离子体凹蚀应用试验的改进 55-58 3.4 小结 58-59 第四章 等离子技术在挠性板钻孔工艺中的应用研究 59-77 4.1 等离子技术在挠性板钻孔工艺中的应用简介 59-60 4.2 等离子技术在挠性板上的钻孔工艺研究 60-68 4.2.1 对PI 材料的无胶双面挠性板钻孔 61-64 4.2.2 对聚酯的无胶双面挠性板钻孔 64-66 4.2.3 对聚四氟乙烯的无胶双面挠性板钻孔 66-68 4.3 等离子钻孔实验结果的分析与讨论 68-75 4.3.1 PI 材料的无胶双面挠性板钻孔的分析与讨论 68-73 4.3.2 聚酯的无胶双面挠性板钻孔的分析与讨论 73-74 4.3.3 聚四氟乙烯的无胶双面挠性板钻孔分析与讨论 74-75 4.4 小结 75-77 第五章 结论 77-79 致谢 79-80 参考文献 80-83 攻硕期间取得的研究成果 83-84
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 印刷电路
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