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高压功率器件结终端的设计研究

作 者: 陈立力
导 师: 亢宝位
学 校: 北京工业大学
专 业: 微电子学与固态电子学
关键词: 高压功率器件 结终端 设计研究 终端结构 偏移场 结终端技术 终端区 SUN工作站 器件仿真 工艺步骤
分类号: TN34
类 型: 硕士论文
年 份: 2000年
下 载: 313次
引 用: 4次
阅 读: 论文下载
 

内容摘要


本文利用简单的结终端技术——偏移场板技术对原来的GAT终端结构进行了改进,在不增加终端尺寸和工艺步骤的基础上将BVCBO分别提高到700V和800V,从实验的结果看改进已经达到了预期的效果;同时选用偏移场板作为终端结构设计了2000V的高压IGBT的终端,从仿真结果和现阶段试验结果看,应该可以达到设计要求,并且终端区尺寸和SIEMENS公司的2000V NPT-IGBT的终端区尺寸大体相同,同时在国际上还没有见到用简单的偏移场板(场限环+场板)和SiO2绝缘层实现这么高耐压的报道。 本文的设计工作主要是在SUN工作站上利用二维器件仿真软件MEDICI完成的,通过仿真得到了一些有用的结论可供后人设计终端结构时参考。

全文目录


中文摘要  3-6
第一章 引言  6-18
  1.1 电力电子器件的发展及电力电子技术对器件的要求  6-8
    1.1.1 电力电子器件的发展  6-7
    1.1.2 电力电子技术发展对器件的要求  7-8
  1.2 影响击穿电压的几个因素  8-11
    1.2.1 平面工艺pn结扩散终端对击穿电压的影响  8-9
    1.2.2 界面电荷存在对击穿电压的影响  9
    1.2.3 杂质在Si、SiO_2中具有不同的分凝系数对击穿电压的影响  9-11
  1.3 各种结终端技术简介  11-16
    1.3.1 场板技术  11-14
    1.3.2 场限环技术  14-15
    1.3.3 结终端扩展技术  15-16
  1.4 本文工作简介  16-17
  参考文献  17-18
第二章 MEDICI仿真程序  18-29
  2.1 基本方程描述  18-19
  2.2 模型的选取  19-24
    2.2.1 复合模型的选取  19-20
    2.2.2 载流子浓度分布的确定  20-22
    2.2.3 迁移率模型的选取  22-23
    2.2.4 雪崩碰撞电离模型  23-24
  2.3 边界条件  24-26
  2.4 数值求解方法  26-28
    2.4.1 离散化  26
    2.4.2 求解方法  26-28
  参考文献  28-29
第三章 800V和700V器件终端的设计  29-45
  3.1 原有终端结构分析  29-33
  3.2 仿真改进800V器件的终端设计  33-38
    3.2.1 改进之一:调整p型环扩散窗口大小  33-34
    3.2.2 改进之二:去掉p型环,调整间距,加场板  34-36
    3.2.3 改进之三:增加第二个环上场板长度  36-38
  3.3 800V器件结终端结构的优化分析  38-42
    3.3.1 界面电荷密度的影响  38-39
    3.3.2 场限环表面浓度的影响  39
    3.3.3 氧化层厚度的影响  39-40
    3.3.4 场板长度变化的影响  40
    3.3.5 场限环宽度(扩散窗口宽度)的影响  40-42
  3.4 700V器件的终端设计  42-43
  3.5 700V器件试验结果及与仿真的对比  43-45
第四章 高压IGBT终端设计  45-60
  4.1 基本结构参数选取及终端结构确定  45-48
    4.1.1 基本结构参数的选取  45-46
    4.1.2 终端结构的选取  46-48
  4.2 仿真设计  48-55
    4.2.1 采用五个环时的结果  48-50
    4.2.2 采用六个环时的结果  50-52
    4.2.3 采用七个环时的结果  52-55
  4.3 对比分析  55-57
    4.3.1 界面电荷密度变化的影响  55
    4.3.2 氧化层厚度变化的影响  55-56
    4.3.3 环宽度(扩散窗口宽度)变化的影响  56
    4.3.4 结深变化的影响  56-57
  4.4 实际IGBT结构的击穿电压  57-59
  参考文献  59-60
第五章 结论与建议  60-62
  5.1 结论  60-61
  5.2 工作建议  61-62
致 谢  62

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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 晶闸管(可控硅)
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