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高压功率器件结终端的设计研究
作 者: 陈立力
导 师: 亢宝位
学 校: 北京工业大学
专 业: 微电子学与固态电子学
关键词: 高压功率器件 结终端 设计研究 终端结构 偏移场 结终端技术 终端区 SUN工作站 器件仿真 工艺步骤
分类号: TN34
类 型: 硕士论文
年 份: 2000年
下 载: 313次
引 用: 4次
阅 读: 论文下载
内容摘要
本文利用简单的结终端技术——偏移场板技术对原来的GAT终端结构进行了改进,在不增加终端尺寸和工艺步骤的基础上将BVCBO分别提高到700V和800V,从实验的结果看改进已经达到了预期的效果;同时选用偏移场板作为终端结构设计了2000V的高压IGBT的终端,从仿真结果和现阶段试验结果看,应该可以达到设计要求,并且终端区尺寸和SIEMENS公司的2000V NPT-IGBT的终端区尺寸大体相同,同时在国际上还没有见到用简单的偏移场板(场限环+场板)和SiO2绝缘层实现这么高耐压的报道。 本文的设计工作主要是在SUN工作站上利用二维器件仿真软件MEDICI完成的,通过仿真得到了一些有用的结论可供后人设计终端结构时参考。
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全文目录
中文摘要 3-6 第一章 引言 6-18 1.1 电力电子器件的发展及电力电子技术对器件的要求 6-8 1.1.1 电力电子器件的发展 6-7 1.1.2 电力电子技术发展对器件的要求 7-8 1.2 影响击穿电压的几个因素 8-11 1.2.1 平面工艺pn结扩散终端对击穿电压的影响 8-9 1.2.2 界面电荷存在对击穿电压的影响 9 1.2.3 杂质在Si、SiO_2中具有不同的分凝系数对击穿电压的影响 9-11 1.3 各种结终端技术简介 11-16 1.3.1 场板技术 11-14 1.3.2 场限环技术 14-15 1.3.3 结终端扩展技术 15-16 1.4 本文工作简介 16-17 参考文献 17-18 第二章 MEDICI仿真程序 18-29 2.1 基本方程描述 18-19 2.2 模型的选取 19-24 2.2.1 复合模型的选取 19-20 2.2.2 载流子浓度分布的确定 20-22 2.2.3 迁移率模型的选取 22-23 2.2.4 雪崩碰撞电离模型 23-24 2.3 边界条件 24-26 2.4 数值求解方法 26-28 2.4.1 离散化 26 2.4.2 求解方法 26-28 参考文献 28-29 第三章 800V和700V器件终端的设计 29-45 3.1 原有终端结构分析 29-33 3.2 仿真改进800V器件的终端设计 33-38 3.2.1 改进之一:调整p型环扩散窗口大小 33-34 3.2.2 改进之二:去掉p型环,调整间距,加场板 34-36 3.2.3 改进之三:增加第二个环上场板长度 36-38 3.3 800V器件结终端结构的优化分析 38-42 3.3.1 界面电荷密度的影响 38-39 3.3.2 场限环表面浓度的影响 39 3.3.3 氧化层厚度的影响 39-40 3.3.4 场板长度变化的影响 40 3.3.5 场限环宽度(扩散窗口宽度)的影响 40-42 3.4 700V器件的终端设计 42-43 3.5 700V器件试验结果及与仿真的对比 43-45 第四章 高压IGBT终端设计 45-60 4.1 基本结构参数选取及终端结构确定 45-48 4.1.1 基本结构参数的选取 45-46 4.1.2 终端结构的选取 46-48 4.2 仿真设计 48-55 4.2.1 采用五个环时的结果 48-50 4.2.2 采用六个环时的结果 50-52 4.2.3 采用七个环时的结果 52-55 4.3 对比分析 55-57 4.3.1 界面电荷密度变化的影响 55 4.3.2 氧化层厚度变化的影响 55-56 4.3.3 环宽度(扩散窗口宽度)变化的影响 56 4.3.4 结深变化的影响 56-57 4.4 实际IGBT结构的击穿电压 57-59 参考文献 59-60 第五章 结论与建议 60-62 5.1 结论 60-61 5.2 工作建议 61-62 致 谢 62
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 晶闸管(可控硅)
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