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一种热敏成像体系及其成像特性的研究

作　者: 孟维华
导　师: 蒲嘉陵；李仲晓
学　校: 北京印刷学院
专　业: 材料物理与化学
关键词: 热敏成像混酚树脂红外吸收染料氧化叔胺
分类号: TQ571
类　型: 硕士论文
年　份: 2009年
下　载: 19次
引　用: 3次
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内容摘要

本论文研究了一种以混酚树脂、近红外染料、结晶紫为主要组分的阳图热敏成像体系及其成像特性,并在此基础上对该体系进行了调整与改良。论文主要工作如下：1)利用该体系配制涂布液,经涂布、烘干后,对曝光能量、显影时间等参数和成像特性进行了详细考察,研究其成像的特点。结果表明,感光膜在830nm红外激光照射下,近红外染料将光能转化成热能,曝光区混酚树脂间结合的氢键被打断,变成碱溶性树脂,经显影液显影后,露出亲水的铝版基,实现了曝光区与非曝光区的亲和性差别,从而完成信息的记录。2)鉴于该体系显影后,宽容度不理想,在原有的感光膜上添加了一层很薄的阻挡层。该阻挡层经红外激光曝光后坏掉,能连同曝光部分一起显影成像,而未曝光部分的阻挡层则起到一定保护作用,使该区域的树脂更牢固,从而提高显影宽容度。为此,本论文设计了两种方案,一种是在涂布液中添加低表面能的物质,在进行涂布和烘干处理过程中,低表面能物质会迁移至感光膜表层,形成单分子膜保护层；另一种是采用等离子气相沉积的方法在原有涂布膜上二次镀膜,以形成保护层。本研究较为系统地考察了两种改性方法对感光膜的性能影响。3)本论文设计在原配方中添加热增幅剂氧化叔胺,氧化叔胺基团在160℃时能发生断裂并瞬时放热,即曝光区红外吸收染料将光能转化为热能,引发氧化叔胺基团断键放热,起到提高体系敏感度的作用。

全文目录

摘要  2-3
ABSTRACT  3-5
目录  5-7
第一章文献综述  7-23
  1.1 热敏CTP版材  7-10
  1.2 热敏树脂体系基础配方的研究  10-12
  1.3 热敏层的表面改性  12-18
  1.4 氧化叔胺化合物的特性  18-19
  1.5 本论文的意义、目的及方案  19-23
第二章热敏成像体系的研究  23-35
  2.1 基础配方的确定  23
  2.2 涂布工艺  23-26
  2.3 成像原理及特性考察  26-34
  2.4 小结  34-35
第三章版材表面改性的探索  35-50
  3.1 改性成像体系原理设计  35-36
  3.2 表面活性剂改性及其成像体系特性的研究  36-43
  3.3 等离子表面改性及其成像体系特性的研究  43-49
  3.4 小结  49-50
第四章含热增幅剂的热敏成像体系  50-59
  4.1 前言  50-52
  4.2 热增幅剂氧化叔胺的制备及性能分析  52-55
  4.3 含热增幅剂成像体系的性能研究  55-58
  4.4 小结  58-59
第五章结论  59-61
参考文献  61-64
致谢  64-65
附录一实验药品一览表  65-66
附录二实验仪器设备一览表  66-67
硕士期间发表文章  67-68

一种热敏成像体系及其成像特性的研究

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