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磁控反应溅射制备TiN/AlN双层薄膜及性能的研究
作 者: 邹文祥
导 师: 赖珍荃
学 校: 南昌大学
专 业: 凝聚态物理
关键词: 反应磁控溅射 TiN薄膜 TiN/AlN双层薄膜 表面形貌 抗氧化性
分类号: O484.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
在工业应用中通过表面涂层技术来提高切割工具、轴承、模具等的寿命是非常重要的,因此低摩擦系数、高硬度及耐腐蚀和抗氧化的涂层材料一直受到人们的重视。金属碳化物和氮化物是常用的硬质涂层材料。过渡金属氮化物特别是TiN,常被用来做工模具的防护涂层。但是单层薄膜的性能无法满足应用上越来越苛刻的要求,这种情况下,具有更高硬度、耐腐蚀性及抗氧化性的双层和多层复合涂层技术开始广泛应用。本文采用直流反应磁控溅射法在P型Si(111)基底上制备了单层TiN薄膜、单层AlN薄膜和TiN/AlN双层薄膜。本文第一部分研究了溅射气压、溅射电流、基底温度等工艺参数对单层TiN薄膜的影响。实验证明,溅射电流为0.45A、基底温度为480℃、溅射气压为0.6Pa时得到的TiN薄膜性能最优:结晶性最好、表面平整、粗糙度较小。本文第二部分研究了溅射气压对AlN薄膜结构和性能的影响,结果表明:在Ar/N2流量比为1:3、保持基底温度为480℃、溅射电流为0.4A沉积工艺下,溅射气压为0.6Pa时,制备的AlN薄膜具有最佳的综合性能。本文第三部分为TiN/AlN双层薄膜的制备及研究。通过XRD发现双层膜中的衍射峰均在单层中出现;表层AlN的禁带宽度为5.83eV;通过薄膜的腐蚀性实验和抗氧化性试验表明,TiN/AlN双层薄膜具有比单层TiN薄膜更优异的耐腐蚀性及抗氧化性能。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-8 第1章 绪论 8-13 1.1 表面涂层的研究背景 8-9 1.2 TiN及复合涂层的研究 9-10 1.2.1 TiN涂层的研究 9 1.2.2 TiN复合涂层的研究进展 9-10 1.3 TiN/AlN薄膜的性能 10-12 1.4 本文的主要研究内容 12-13 第2章 薄膜的制备与检测 13-23 2.1 薄膜的制备原理与镀膜设备 13-17 2.1.1 溅射镀膜原理 13-16 2.1.2 溅射镀膜设备 16-17 2.2 薄膜的检测 17-23 2.2.1 试验材料及技术路线 17-18 2.2.2 薄膜的结构与性能分析 18-23 第3章 工艺参数对TiN薄膜的影响 23-38 3.1 溅射气压对TiN薄膜结构与性能的影响 23-28 3.1.1 溅射气压对TiN薄膜结晶取向的影响 23-25 3.1.2 溅射气压对TiN薄膜沉积速率的影响 25-26 3.1.3 溅射气压对TiN薄膜表面形貌的影响 26-28 3.2 基底温度对TiN薄膜结构与性能的影响 28-32 3.2.1 基底温度对TiN薄膜结晶取向的影响 28-29 3.2.2 基底温度对TiN薄膜沉积速率的影响 29-30 3.2.3 基底温度对TiN薄膜表面形貌的影响 30-32 3.3 溅射电流对TiN薄膜结构与性能的影响 32-38 3.3.1 溅射电流对TiN薄膜结晶取向的影响 33-34 3.3.2 溅射电流对TiN薄膜沉积速率的影响 34-35 3.3.3 溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响 35-38 第4章 AlN薄膜沉积及性能分析 38-44 4.1 溅射气压对AlN薄膜的结构的影响 38-40 4.2 AlN薄膜的沉积速率和表面粗糙度与溅射气压的关系 40-41 4.3 AlN薄膜的光学性能 41-44 第5章 TiN/AlN双层薄膜的制备及性能研究 44-56 5.1 TiN/AIN双层薄膜的结构与表面形貌研究 44-47 5.1.1 不同基底温度对沉积TiN/AlN双层膜结晶取向的影响 44-45 5.1.2 不同基底温度对沉积TiN/AlN双层膜表面形貌的影响 45-47 5.2 TiN/AlN双层膜性能研究 47-56 5.2.1 TiN/AlN双层膜的结构分析 47-48 5.2.2 TiN/AlN双层膜的光学性能分析 48-49 5.2.3 TiN/AlN双层膜的耐腐性分析 49-51 5.2.4 TiN/AlN双层膜的抗氧化性能分析 51-56 第6章 结论 56-59 致谢 59-60 参考文献 60-64 攻读学位期间的研究成果 64
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的生长、结构和外延
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