学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合过程研究

作　者: 刘益民
导　师: 张广秋；葛袁静
学　校: 北京印刷学院
专　业: 材料物理与化学
关键词: 等离子体聚合八甲基环四硅氧烷过程研究透明薄膜放电空间断裂方式聚合机理膜的形成过程等离子体产生聚合过程
分类号: TQ316.3
类　型: 硕士论文
年　份: 2002年
下　载: 98次
引　用: 0次
阅　读: 论文下载

内容摘要

本论文选用射频（13.56MHz）放电作为等离子体产生源，以静电探针为测量手段，研究了D4这种单体的等离子体聚合反应的产物和过程。1. 在不同的放电气体下，我们得到了粉末、透明薄膜和交联薄膜三种D4的等离子体聚合产物，其中粉末与透明薄膜是在相同的放电条件下获得的。经过红外和XPS分析后，我们发现粉末与透明薄膜的结构是完全不同的，因此，我们认为这两种产物存在着不同的聚合机理。其中粉末为气相空间的聚合产物，薄膜为基片上的生长产物，即粉末与薄膜的活性物种分别是在空间和基片生成。我们还发现透明薄膜与交联薄膜也存在不同的聚合机理。透明薄膜的形成过程中，Si—O键的断裂是D4在聚合过程中主要的断裂方式；而交联薄膜的形成过程中，Si—C或者C—H的断裂是D4在聚合过程中主要的断裂方式。2. 在放电空间引入磁场后，放电空间的电子温度增加了。此时，等离子体聚合的产物为颗粒状的薄膜。从红外谱图看出：这种薄膜与交联薄膜类似，只是其中含有较多的羰基。这很可能就是由于磁场增加了粒子间相互碰撞引起的。3.从放电后产物的分布与磁场的形状相似，可以推论出：有磁场存在时，反应的活性粒子包含有带电粒子。因为只有带电粒子才会受到磁场的约束。

全文目录

中文摘要  5-7
第一章综述  7-19
  1．1 等离子体的存在和定义  7-8
  1．2 等离子体的发生  8
  1．3 等离子体的相关参量  8-10
  1．4 等离子体化学的历史及研究内容  10-12
    1．4．1 等离子体化学的历史  10
    1．4．2 等离子体化学研究的内容  10-12
  1．5 等离子体聚合及其特点  12-13
  1．6 等离子体聚合机理  13-16
    1．6．1 等离子体聚合中的基元反应  13
    1．6．2 等离子体聚合机理  13-16
  参考文献  16-19
第二章本课题的提出  19-20
第三章等离子体参数的测量  20-26
  3．1 静电单探针装置及测量原理  20-24
    3．1．1 静电单探针装置  20-21
    3．1．2 静电单探针测量的工作原理  21-23
    3．1．3 电子温度和电子密度的计算  23-24
  3．2 静电探针的测量  24-25
  3．3 小结  25
  参考文献  25-26
第四章 D4等离子体聚合实验研究  26-44
  4．1 实验原料、装置及方法  26-27
  4．2 聚合膜的制备方法  27-28
  4．3 D4的等离子体聚合参数对反应的影响  28-30
    4．3．1 极间距对聚合成膜的影响  28-29
    4．3．2 单体进气速率对聚合成膜的影响  29
    4．3．3 放电功率对聚合成膜的影响  29-30
    4．3．4 气压对聚合成膜的影响  30
  4．4 聚合物的表观形态  30-33
  4．5 D4等离子体聚合物的结构分析  33-41
    4．5．1 红外结果分析  33-36
    4．5．2 X射线光电子能谱分析  36-41
  4．6 D4等离子体聚合机理讨论  41
  4．7 小结  41-42
  参考文献  42-44
第五章磁场引入对聚合过程的影响  44-52
  5．1 电子和离子在磁场中的运动  44-46
  5．2 磁场的设计与测量  46-47
  5．3 磁场对放电的影响  47-48
  5．4 磁场对等离子体聚合物的影响  48-49
  5．5 聚合物的结构分析  49-50
  5．6 聚合机理讨论  50
  5．7 小结  50-51
  参考文献  51-52
结论  52

八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合过程研究

内容摘要

全文目录

相似论文