学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
电沉积Cu-In-Ga金属预制层的硒化和硫化研究
作 者: 张超
导 师: 敖建平
学 校: 南开大学
专 业: 电子科学与技术
关键词: 电化学沉积法 等离子体活化硒 金属预制层 H2S硫化 Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳电池
分类号: TM914.42
类 型: 博士论文
年 份: 2013年
下 载: 13次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
Cu(In,Ga)Se2(CIGSe)薄膜太阳电池最高转换效率已达到20.4%,远远超过其他薄膜电池,成本低廉、无衰退、抗稳定性强等特点使其成为最有发展前途的光伏器件。作为非真空法制备工艺之一的电化学沉积法以其高原料利用率、低成本投入等特点成为制备CIGSe太阳电池的重要研究方向。但是目前电沉积法制备CIGSe薄膜太阳电池的转化效率不高,主要存在薄膜结晶质量差、Ga的有效掺入和薄膜带隙优化困难等问题。本论文从这三个主要问题出发,分别在预制层的制备和硒化处理两部分工艺中对电沉积CIGSe薄膜电池进行研究。在预制层的制备方面,本论文主要解决了在Cu/In衬底上金属Ga电沉积困难的问题。通过模拟软件和电化学实验对电沉积Ga溶液体系进行了深入的研究,发现氨基磺酸钾为导电盐可以显著提高Ga的溶解度和溶液的稳定性;较低的pH值溶液的稳定性较高,当电极电位很负(<-3V)时,Ga沉积的电流效率不受pH值的影响;析氢副反应是影响电沉积Ga薄膜质量的主要因素,三乙醇胺和葡萄糖在Cu/In衬底上的吸附特性,可以有效地减弱析氢反应,增加Ga沉积的电流效率,改善薄膜质量。通过电化学阻抗实验发现联合使用三乙醇胺和葡萄糖时对电沉积Ga薄膜有很强的整平作用。因此,最终得到了以Ga2(SO4)3为主盐、氨基磺酸钾为导电盐、三乙醇胺和葡萄糖为混合添加剂、pH值小于2的可长期稳定电沉积高质量Ga薄膜的溶液体系。首次在Cu/In衬底上电沉积Ga的过程中,发现Ga会逐渐向薄膜内部扩散,穿过In层与CuIn合金发生相变生成CuGa2合金,并提出了发生此现象的物理机制。这是由于电沉积In薄膜较为疏松,Ga的原子尺寸较小,容易发生扩散现象。并且Ga熔点较低,与其他金属形成合金所需的能量很低,CuGa2合金晶胞远小于Culn合金,其结构更接近金属In和Cu,容易发生CuIn合金向CuGa2合金的相变。通过SMIS测试,在Cu/In衬底上电沉积Ga得到的薄膜实际结构为Cu/CuGa2/In。在硒化方面,本论文使用等离子体活化硒源硒化获得了单相的CIGSe薄膜,解决了Ga的有效掺入困难的问题。结合电沉积金属预制层的特点,在硒化前使用合金化处理提高了CIGSe薄膜与衬底Mo层的结合力。系统研究了等离子体硒化过程中通入的气体以及等离子体功率对CIGSe薄膜的影响,发现H2对大分子Sen(2≤n≤8)裂解生成小分子有催化作用,有助于提高Se的活性。特定的等离子体功率可以消除CuInSe2-CuGaSe2(CISe-CGSe)两相分离现象,得到单相的CIGSe薄膜。通过反应动力学与实验结果对照分析,发现Ga-Se相的生成是形成单相CIGSe的控制步骤。根据此结论提出了分步等离子体硒化工艺,优化得到较高效率的CIGSe薄膜电池,效率为9.42%。本论文还通过对CIGSe薄膜进行硒化硫化(硒硫化)处理,来解决电沉积CIGSe薄膜表面带隙低的问题。研究发现电沉积CIGSe薄膜硒硫化处理后,薄膜中出现了Ga和S同时在薄膜表面和背部富集的现象,与溅射金属后硒化等工艺制备的薄膜不同。通过Cu-In-Ga金属预制层硒化、硫化和硒硫化对比研究,揭示了出现此现象的机制。这是由于电沉积CIGSe薄膜硒化反应不完全、晶界和孔洞较多,S比Se具有更高的活性,更容易扩散到薄膜背部与Cu-Ga合金和Ga进行反应,Ga在S的作用下沿着晶界扩散到了薄膜的表面并富集。并且还发现Cu-(Se,S)相优先与In-S相反应,会抑制了CISe的形成,导致In-Se相向薄膜内部扩散,促进In分布更加均匀。根据此结论,通过改变预硒化衬底温度来实现CIGSSe薄膜带隙的优化,降低硒硫化衬底温度来减少表面Cu-(Se,S)相的形成,最终优化整个硒化和硒硫化工艺得到了效率为10.4%的CIGSSe薄膜太阳电池。
|
全文目录
摘要 5-7 Abstract 7-14 第一章 引言 14-31 第一节 光伏太阳电池的研究进展 14-17 1.1.1 光伏太阳电池的研究意义 14-15 1.1.2 光伏太阳电池的研究现状 15-17 第二节 电沉积制备CIGSe太阳电池 17-22 1.2.1 电沉积制备CIGSe太阳电池的研究意义 17-18 1.2.2 电沉积制备CIGSe太阳电池的发展历程和现状 18-21 1.2.3 电沉积CIGSe太阳电池的主要难点 21-22 第三节 本论文的研究内容及意义 22-29 1.3.1 金属Ga的电沉积研究 22-25 1.3.2 等离子体硒化的研究 25-28 1.3.3 CIGSe薄膜硫化的研究 28-29 第四节 本论文的结构 29-31 第二章 电沉积制备CIGSe薄膜电池的基本理论和分析方法 31-43 第一节 电化学沉积Cu-In-Ga金属预制层的基本原理 31-35 2.1.1 金属电沉积原理 31-34 2.1.2 电流效率计算 34-35 第二节 电化学测试方法及原理 35-39 2.2.1 循环伏安法测试 35 2.2.2 霍尔槽测试 35-37 2.2.3 电化学阻抗测试 37-39 第三节 等离子体硒化设备及CIGSe薄膜电池制备工艺 39-41 2.3.1 等离子体硒化设备 39-40 2.3.2 CIGSe薄膜电池制备工艺 40-41 第四节 薄膜及太阳电池分析测试方法 41-43 2.4.1 CIGSe薄膜分析技术及原理 41-42 2.4.2 CIGSe太阳电池测试方法 42-43 第三章 Cu/In衬底上电沉积金属Ga层的研究 43-80 第一节 电沉积Cu/In金属预制层的研究 43-49 3.1.1 电沉积金属Cu层的研究 44-47 3.1.2 电沉积金属In层的研究 47-49 第二节 水溶液体系对Cu/In衬底的影响 49-56 3.2.1 导电盐对Cu/In衬底的影响 50-55 3.2.2 溶液pH值对Cu/In衬底的影响 55-56 第三节 金属Ga电沉积的研究 56-67 3.3.1 电沉积Ga溶液pH值的研究 57-59 3.3.2 金属Ga电沉积的电化学分析 59-62 3.3.3 电沉积Cu-In-Ga金属预制层的研究 62-67 第四节 电沉积Ga薄膜质量的研究 67-77 3.4.1 三乙醇胺对电沉积Ga薄膜的影响 68-72 3.4.2 葡萄糖对电沉积Ga薄膜的影响 72-74 3.4.3 电沉积Ga溶液的优化 74-77 第五节 本章小结 77-80 第四章 电沉积Cu-In-Ga金属预制层等离子体硒化的研究 80-117 第一节 电沉积Cu-In-Ga金属预制层的合金化处理 80-89 4.1.1 电沉积Cu-In-Ga金属预制层直接硒化的效果 80-82 4.1.2 Cu-In-Ga金属预制层的合金化处理 82-87 4.1.3 合金化处理对硒化后CIGSe薄膜的影响 87-89 第二节 等离子体硒化对CIGSe结晶质量的影响 89-100 4.2.1 辉光气体对CIGSe薄膜的影响 89-95 4.2.2 等离子体功率对CIGSe薄膜结晶质量的影响 95-100 第三节 等离子体硒化对CIGSe反应路径的影响 100-109 4.3.1 硒化过程中各反应的动力学分析 101-106 4.3.2 等离子体硒化的反应路径 106-109 第四节 等离子体硒化CIGSe薄膜电池性能的研究 109-115 4.4.1 等离子体功率对电池性能影响 109-112 4.4.2 等离子体活化硒制备CIGSe薄膜的优化 112-115 第五节 本章小结 115-117 第五章 Cu(In,Ga)Se_2薄膜硒硫化的研究 117-141 第一节 硒硫化对Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜的影响 117-123 5.1.1 硒硫化对薄膜结构的影响 118-119 5.1.2 硒硫化对薄膜元素分布的影响 119-122 5.1.3 硒硫化对Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜形貌的影响 122-123 5.1.4 硒硫化对Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜电池性能的影响 123 第二节 Cu-In-Ga金属预制层硒硫化反应机理 123-132 5.2.1 Cu-In-Ga金属预制层的H2S硫化处理 124-127 5.2.2 Cu-In-Ga金属预制层的硒硫化处理 127-131 5.2.3 Cu-In-Ga金属预制层硒硫化的反应机理 131-132 第三节 预硒化Cu(In,Ga)Se_2薄膜对硒硫化的影响 132-140 5.3.1 预硒化衬底温度对硒硫化Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜的影响 132-136 5.3.2 预硒化衬底温度对Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜电池性能的影响 136-137 5.3.3 Cu(In,Ga)(S,Se)_2薄膜电池的优化 137-140 第四节 本章小结 140-141 第六章 结论与展望 141-144 第一节 本文主要结论 141-143 第二节 后续工作及展望 143-144 参考文献 144-152 致谢 152-153 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 153
|
相似论文
- 阳极氧化铝模板及一维纳米结构材料的制备研究,TB383.1
- ZnO一维纳米结构的制备及其pH传感特性的研究,TB383.1
- 电化学沉积三维有序大孔Fe-Ni合金和表征,TG174.4
- 有序大孔硅薄膜的制备与表征,O613.72
- 模板法制备一维氧化锌及图案化的ABS纳米材料,TB383.1
- 电化学沉积法制备ZnO纳米材料及其光催化性质研究,O643.36
- 羟基磷灰石粉体及涂层的制备与性能研究,TQ170
- Al_2O_3-CeO_2–Y_2O_3复合防护涂层的研究,TG174.44
- 2J85材料超疏表面制备工艺研究,TG174.4
- Co-Pt-W(P)磁性薄膜的制备及其性能研究,TB383.2
- 场发射碳纳米管薄膜的制备与性能研究,TN304.055
- 黄铜矿太阳能电池薄膜材料的电沉积制备与性能研究,TM914.42
- Heusler合金Co_2FeZ(Z=Sn,Al,Si)的电化学法及固相反应法制备研究,O484.1
- 湿化学法制备太阳电池用硫铟铜及硫化铟薄膜的研究,TB383.2
- TiO_2-Cu_2O异质结太阳能电池的制备与表征,TM914.4
- 鸟粪石结晶影响因素探究及其肥效性能表征,X703
- 多孔阳极氧化铝模板及磁性纳米线/管的制备与研究,TB383
- 锰的氧化物/氢氧化物薄膜电极的制备及电容特性,O646.54
- 纳米ZnO基染料/量子点敏化太阳能电池研究,TM914.42
- 旋涂法制备CuInS_2薄膜太阳能电池光吸收层,TM914.42
- 太阳电池用CuInS_2和CdS薄膜材料的制备与表征,TM914.42
中图分类: > 工业技术 > 电工技术 > 独立电源技术(直接发电) > 光电池 > 太阳能电池 > 薄膜太阳能电池
© 2012 www.xueweilunwen.com
|