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纳米复合磁性薄膜的制备、结构及性能研究
作 者: 梁锐生
导 师: 石旺舟;黄翀
学 校: 汕头大学
专 业: 材料物理与化学
关键词: 纳米晶软磁薄膜 微结构 磁矩取向 宏观磁性
分类号: TB383
类 型: 硕士论文
年 份: 2004年
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内容摘要
磁性材料的巨磁电阻(GMR)和巨磁阻抗(GMI)效应在磁测量和磁记录领域具有广阔的应用前景。纳米晶软磁材料因其优异的磁性能和灵敏度而受到关注。本文介绍了利用磁控溅射制备纳米晶软磁薄膜的方法、原理和工艺,同时应用XRD及Mssbauer谱等测试方法对纳米晶软磁薄膜的结构进行表征。主要结果如下: (1)利用射频磁控溅射制备了Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜,研究了射频溅射功率对薄膜结构和性能的影响。其结果表明:在较低溅射功率密度下,薄膜为无定型结构;随着溅射功率密度升高,沉积薄膜无需热处理,便呈现出晶态和非晶态的混合相结构,晶态为纳米级的α-Fe(Si)和α-Fe(B)固溶体。随着溅射功率的提高,非晶相的体积分数逐渐减少,α-Fe(Si)相和α-Fe(B)相的体积分数逐渐提高。α-Fe(B)中B原子的占位几率也随溅射功率的上升而增加,导致α-Fe(B)相超精细场随之下降:50、100、150和200W所对应的超精细场分别为235KOe、229KOe、223KOe和218KOe。 (2)薄膜的磁矩取向与溅射功率有关。磁矩取向与膜表面法向间的夹角随着功率的上升变小,当溅射功率较小时,磁矩主要平行于膜面,随着溅射功率升高,磁矩取向与膜面法向间的夹角逐渐减少。 (3)通过异向磁化研究了磁矩取向对薄膜宏观磁性的影响,结果表明:其剩磁比随着磁矩取向与磁化方向间的夹角变小而升高。这说明薄膜样品的磁性能与晶粒的各向异性密切相关。 (4)溅射功率为400W时,制备得到的薄膜样品为富Si的Si(Fe)与富Fe的Fe(Si)纳米晶的复合镶嵌结构。由于Si基固溶体的析出,存在着钉扎效应,同时具有软磁特性的α-Fe(Si)固溶体纳米晶在样品中所占的比例减少,从而导致样品的磁性能的变化。 (5)利用射频磁控溅射与直流磁控溅射交叉沉积制备得到的NiFe/Ge多层膜,通过XRD、Mssbauer谱及VSM分析表明:得到的样品(a)为NiFe基及Fe基固溶体纳米晶与非晶态基体的复合镶嵌结构,所表现出软磁性能;而当得到样品(b)中存在Fe、Ni、Ge三种单质纳米晶,并有NiFe、FeGe、FeGeNi等合金纳米晶相时,则形成多种纳米晶与非晶的复合镶嵌结构,部分晶粒为顺磁性,NiFe、FeGeNi等为软磁性,并有硬磁相析出,矫顽力和Hsat(~2200e)相应提高。说明硬磁相与软磁相之间存在交换耦合作用和钉扎作用,引起了薄膜的退磁机制和磁化机制的不一致。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-6 第一章 引言 6-17 1.1 纳米材料的一般特性 6-7 1.2 纳米材料的磁特性 7-8 1.3 纳米磁性材料的应用与研究进展 8-13 1.4 本论文研究的主要问题 13-14 参考文献 14-17 第二章 纳米复合镶嵌薄膜的制备与表征 17-26 2.1 制备方法 17-22 2.2 表征手段 22-25 参考文献 25-26 第三章 溅射功率对Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构的影响 26-34 3.1 实验方法 26-27 3.2 实验结果与分析 27-32 3.3 小结 32-33 参考文献 33-34 第四章 Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构及磁性研究 34-38 4.1 实验方法 34 4.2 实验结果及分析 34-36 4.3 小结 36-37 参考文献 37-38 第五章 Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜中Si(Fe)与Fe(Si)固溶体的复合镶嵌结构与磁性间的关系 38-45 5.1 实验方法 38-39 5.2 结果分析与讨论 39-43 5.3 小结 43 参考文献 43-45 第六章 NiFe/Ge多层膜的开关效应 45-51 6.1 实验方法 45-46 6.2 实验结果与分析 46-49 6.3 小结 49 参考文献 49-51 第七章 结论 51-52 致谢 52-53 攻读硕士研究生期间发表的论文 53
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中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 特种结构材料
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