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基于Stretch S5000的密集采样成像算法的实现

作　者: 潘钧儒
导　师: 史峥
学　校: 浙江大学
专　业: 电路与系统
关键词: 分辨率增强技术密集采样成像算法软件可配置处理器 Stretch S5000
分类号: TN402
类　型: 硕士论文
年　份: 2006年
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内容摘要

当集成电路的特征尺寸接近曝光系统的理论分辨率极限时,在硅圆片表面制造出来的图形相对于电路版图会有明显的畸变,这种现象通常称为光刻邻近效应(Optical Proximity Effect,OPE)。为减少光学邻近效应对集成电路技术发展的影响,工业界提出了光刻分辨率增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)。分辨率增强技术的应用使得光刻用掩模图形日趋复杂,而掩模制造成本和制备时间也随之增加。由于光刻工艺包含了一系列复杂的物理和化学过程,分辨率增强技术本身很难保证其输出结果的正确性,因此在制造之前,利用计算机对已经过处理的版图作可制造性验证变得十分必要。在这些可制造性检查技术中,有些问题只能通过密集采样成像算法才能被检查出来,然而由于计算量太大,基于密集采样成像算法的可制造性检查在实际应用中还有待改进。本文在认真研究现有的密集采样成像算法的基础上,分析了影响密集采样成像算法计算量的主要环节,并对这些环节利用软件可配置处理器Stretch S5000进行了重点的算法优化处理。基于Stretch S5000的密集采样成像算法的实现,大大提高了算法的计算速度,使密集采样成像算法进一步走向实用。同时本文对Stretch S5000型软件可配置处理器进行了一个较为全面的介绍,基于它的密集采样成像算法的实现,也是对Stretch S5000如何在密集计算应用领域发挥高效作用的一次有意义的讨论。

全文目录

摘要  2-3
ABSTRACT  3-4
目录  4-7
第一章绪论  7-13
  1.1 集成电路发展概况  7
  1.2 集成电路设计方法  7-8
  1.3 集成电路的生产工艺  8
  1.4 超深亚微米下集成电路设计和制造的问题  8-10
    1.4.1 超深亚微米电路设计对设计流程的影响  8-9
    1.4.2 超深亚微米下集成电路制造工艺的问题  9-10
  1.5 分辨率增强技术  10-11
    1.5.1 光学邻近校正技术  10-11
    1.5.2 移相掩模校正技术  11
  1.6 论文组织  11-13
第二章集成电路光刻工艺及光刻系统  13-21
  2.1 光刻工艺  13-16
    2.1.1 氧化层  13
    2.1.2 涂胶  13-14
    2.1.3 光刻机曝光  14-15
    2.1.4 显影和烘干  15
    2.1.5 蚀刻  15
    2.1.6 旋转、清洗和干燥  15-16
    2.1.7 各种工艺加工步骤  16
    2.1.8 去除光刻胶  16
  2.2 光刻系统描述  16-21
    2.2.1 光刻基本原理  17
    2.2.2 光刻基本理论  17-21
第三章密集采样成像算法  21-26
  3.1 可制造性检查  21-22
  3.2 光刻建模  22-24
  3.3 密集采样成像算法  24-26
    3.3.1 建立频域形式的TCC  24
    3.3.2 掩模图形的傅立叶变换  24-25
    3.3.3 IFFT转换获得光强的空间分布  25-26
第四章 Stretch S5000软件可配置处理器  26-36
  4.1 SoC发展概况  26-28
    4.1.1 SoC的概念  26
    4.1.2 传统 SoC设计面临的巨大压力  26-27
    4.1.3 发展趋势  27-28
      4.1.3.1 SoC设计的平台化  27
      4.1.3.2 系统级硬件描述语言的发展  27-28
      4.1.3.3 可配置成为 SoC开发趋势  28
  4.2 Stretch S5000型软件可配置处理器  28-36
    4.2.1 可配置平台  28-29
    4.2.2 Stretch S5000型软件可配置处理器  29-36
      4.2.2.1 S5000的结构和特点  29-30
      4.2.2.2 S5000集成开发环境及软件开发流程介绍  30-32
      4.2.2.3 用S5000软件加速开发的例子  32-36
第五章基于 Stretch的加速算法实现  36-58
  5.1 建立频域形式的TCC  36-38
  5.2 掩模图形的Fourier变换  38-41
  5.3 构建掩模区域伪光强频谱值  41-43
  5.4 二维 FFT/IFFT的 Stretch实现  43-55
    5.4.1 二维FFT计算方法  43-46
    5.4.2 基于Stretch的一维FFT的实现  46-55
      5.4.2.1 主要的数据结构以及函数定义  48
      5.4.2.2 程序流程  48-49
      5.4.2.3 码位倒置  49-50
      5.4.2.4 构建查找表  50-51
      5.4.2.5 蝶形结运算  51-54
      5.4.2.6 FFT实现的几个问题以及解决方案  54-55
    5.4.3 总结  55
  5.5 获取空间域伪光强值  55-58
第六章总结与展望  58-60
参考文献  60-62
致谢  62

基于Stretch S5000的密集采样成像算法的实现

内容摘要

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