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硫系相变型半导体存储材料的制备与表征
作 者: 姜文娟
导 师: 程晓农
学 校: 江苏大学
专 业: 材料学
关键词: 相变型半导体存储器 相变材料 固相法 正交晶系 Sb-Se Sb-Te Ge-Sb-Te
分类号: TN304
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
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内容摘要
自从硫系合金薄膜被报道可用于相变数据存储之后,相变存储技术就很快被开发出来,并与于20世纪80年代得到了迅速的发展。相变材料的优劣直接影响着相变存器件的研究,研究和开发性能优良的相变材料就成为了发展相变存储技术的核心。而硫系化合物正是这样一组重要的相变型存储材料,特别是Ⅴ-Ⅵ族二元和Ge(锗)-Ⅴ-Ⅵ族三元化合物,因其纳米晶态半导体因具有较大的表面积比、较高的活性、特殊的电学和光学性能,引起了科学界的广泛关注。本文采用固相法,以单质Ge、Sb(锑)、Te(碲)和Se(硒)金属粉末为原料,合成了Sb-Se,Sb-Te和Ge-Sb-Te系列相变材料,研究了材料合成的工艺条件,分析表征了制备材料的形貌和结构特点,主要研究内容与结构如下:(1)对材料的成分配比与制备工艺进行了优化设计,制备Sb-Se系材料最佳温度为700℃,Sb-Te系为750℃,Ge-Sb-Te系为1100℃;(2)测试表征了Sb-Se系列材料,分析了元素比例,烧结温度和不同的冷却方式对材料的制备的影响,根据结果推断出稳定性按Sb2Se3空冷→Sb2Se3炉冷→SbSe→Sb1Se4→Sb4Se1依次递减;(3)测试表征了Sb-Te系列材料,配比接近2:3比例的样品衍射峰较强,产物为Sb2Te3正交晶系块体材料,65-3678结构,R-3m空间群。配比达到Sb9Te1时产物为六方晶系Sb7Te1,P-63m空间群;(4)Ge掺杂后Sb2Te3的晶胞结构没有改变,依然是典型的R-3m斜方晶系,曲线以Ge1Sb4Te7、GeSb2Te4和Ge2Sb2Te5渐强顺序向右发生小角度推移,热稳定性逐次提高。
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全文目录
摘要 5-7 ABSTRACT 7-11 第一章 绪论 11-29 1.1 相变型半导体存储器 11 1.2 C-RAM的工作原理 11-13 1.3 C-RAM研究历程 13-14 1.4 C-RAM器件中的几个关键问题 14-19 1.5 C-RAM的存储材料要求 19-21 1.6 C-RAM的存储材料研究现状 21-23 1.6.1 In-Ag-Sb-Te四元合金相变材料 22 1.6.2 掺杂合金相变材料 22-23 1.7 相变型半导体存储材料的制备方法 23-27 1.7.1 热蒸发法 23 1.7.2 溅射法 23-24 1.7.3 固相微波合成法 24-25 1.7.4 水热合成法 25 1.7.5 模板法 25-26 1.7.6 电化学沉积法 26-27 1.8 本论文选题思想及研究内容 27-29 第二章 实验器材及方法 29-32 2.1 实验设备 29 2.2 制备方法 29-30 2.2.1 实验材料 29-30 2.2.2 制备 30 2.3 材料表征 30-31 2.3.1 材料热性能分析 30-31 2.3.2 材料物相结构分析与微观形貌表征 31 2.4 本章小结 31-32 第三章 SB-SE硫系化合物的制备和表征 32-43 3.1 结果与讨论 33-41 3.1.1 管壁产物形貌分析 33-35 3.1.2 Sb_2Se_3微米管结构表征 35-37 3.1.3 Sb-Se结晶块体结构表征 37-38 3.1.4 热分析 38-40 3.1.5 拉曼分析 40-41 3.2 本章小结 41-43 第四章 SB-TE系材料的制备研究 43-50 4.1 实验部分 43-44 4.1.1 Sb-Te材料制备 43-44 4.2 结果与讨论 44-49 4.2.1 产物形貌分析 44-46 4.2.2 结晶块体结构表征 46-47 4.2.3 Sb-Te系合金DSC分析 47-48 4.2.4 拉曼分析 48-49 4.3 本章小结 49-50 第五章 GE-SB-TE系材料的制备研究 50-55 5.1 实验部分 50-51 5.1.1 Ge-Sb-Te材料制备 50-51 5.2 表征及结果讨论 51-54 5.2.1 Ge-Sb-Te相变材料的XRD研究结果 51-52 5.2.2 Ge-Sb-Te系合金DSC分析 52-54 5.3 本章小结 54-55 第六章 结论 55-56 第七章 展望 56-57 参考文献 57-60 攻读硕士期间完成的学术论文 60-61 致谢 61
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 材料
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