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无掩模光刻系统研究

作　者: 赵圣哲
导　师: 富丽晨；陈大鹏
学　校: 长春理工大学
专　业: 微电子学与固体电子学
关键词: 无掩模光刻微尖端阵列阵列并行直写
分类号: TN305.7
类　型: 硕士论文
年　份: 2010年
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内容摘要

本论文所提出的微尖端阵列无掩模光刻系统扩展了纳米加工的手段,是未来光刻技术发展的一种趋势。通过对本系统的研究,无需掩模,微尖端的发射电流就可直接曝光光刻胶,进行图形生成及加工,还通过阵列并行直写大大提高了工作效率。取得的主要研究成果如下：1,设计并制做了无掩模光刻系统中的核心器件—微尖端阵列器件,开发了一整套用于制作微尖端阵列器件的MEMS制作工艺,并创新的提出了使用微尖端阵列来进行电子束直写。2,完整的制作了一套无掩模光刻平台,并完成了CIF版图文件到微动台可识别的二进制编码的转换。3,对微尖端阵列器件发射电子的能力进行了测试,取得了理想的测试结果。

全文目录

摘要  4-5
ABSTRACT  5-7
第一章绪论  7-13
  1.1 研究背景  7-8
  1.2 下一代光刻技术简介  8-12
  1.3 论文主要研究内容  12-13
第二章光刻技术的基本原理及无掩模光刻系统总体分析  13-22
  2.1 传统光学光刻技术的基本原理  13-15
  2.2 电子束直写技术原理  15-17
  2.3 无掩模光刻系统总体分析  17-22
第三章微尖端阵列器件的分析与制作  22-30
  3.1 微尖端阵列器件的理论分析  22-25
  3.2 微尖端阵列器件的版图设计及工艺流程  25-30
第四章版图文件的重构和转化  30-34
  4.1 版图文件的简化  30-31
  4.2 CIF版图文件的处理  31-34
第五章无掩模光刻系统的搭建及对系统的测试  34-41
  5.1 真空系统搭建  34-35
  5.2 无掩模光刻系统的无缝拼接  35-37
  5.3 无掩模光刻系统的测试  37-40
  5.4 对实验结果的分析  40-41
结论  41-43
致谢  43-44
参考文献  44-46

无掩模光刻系统研究

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