学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
微纳尺度接触力学行为实验研究
作 者: 杨承铭
导 师: 杨晓京
学 校: 昆明理工大学
专 业: 农业机械化工程
关键词: 微机电系统 微纳尺度 纳米压痕仪 原子力显微镜 接触力学 接触滑动
分类号: TH-39
类 型: 硕士论文
年 份: 2013年
下 载: 2次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
微纳尺度下接触表面容易引发黏着和磨损,导致微机电系统产生严重的黏着、摩擦与磨损问题。它是导致微机械系统在制造和使用中失效的主要因素,也是当前微纳机械亟待解决的重要课题。本课题选题来源于国家自然科学基金项目:“微机械摩擦副接触力学行为多尺度耦合分析方法研究”的部分内容。首先对微纳尺度接触力学理论进行分析,利用纳米压痕仪和原子力显微镜,在探针与试件之间形成球面-平面类型的微机械摩擦副。然后通过探针与不同晶向的试件样品表面之间的接触力学行为实验和接触滑动力学行为实验,再利用最后利用原子力显微镜扫描压、划痕,观测实验后试件的表面形貌。最后运用Matlab软件分析实验数据,绘制位移-载荷曲线及滑动距离-摩擦力曲线,计算获得硬度、模量等力学性能参数,分析实验数据和原子力显微镜扫描获得的表面形貌图,得出相关规律:(1)通过分析位移-载荷曲线,发现在接触力学行为实验过程中发生了较明显的突进和蠕变,主要原因是材料的内部结构发生了变化,即晶格变形、晶格重构等。而且在实验过程中,不同晶向的试件,硬度值和弹性模量值并不相同。(2)观察三种晶向的单晶硅试件的压痕图片,发现试件在压深小于1000nm时,只是发生了弹塑性变形;在压深为1000nm时,压痕周围出现了裂纹;而在压深为2000nm时,试件出现了明显的脆性断裂。观察三种晶向的单晶铜试件的压痕图片,发现在接触力学行为实验过程中,压痕周围没有裂纹或是脆性断裂出现。发现由于铜的延展性很好,脱离接触后,弹性恢复较小。(3)对比不同载荷和不同速度情况下的三种晶向的单晶硅试件以及三种晶向的单晶铜试件的滑动距离-摩擦力曲线可以发现,在接触滑动力学行为实验过程中摩擦力并不是恒定不变的。同载荷的情况下,速度越大,相对波动越小;当载荷和速度都相同时,不同晶向的试件曲线是不同的且并不是平滑的曲线;载荷越大速度越大的情况下,探针与试件间的摩擦力波动越小,黏着作用越小。
|
全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-9 第一章 绪论 9-19 1.1 微机电系统概述 9-10 1.2 微纳尺度接触力学的研究意义 10-13 1.3 微纳尺度接触力学的研究现状 13-15 1.3.1 国外研究现状 13-14 1.3.2 国内研究现状 14-15 1.4 本课题的主要研究方法和手段 15-17 1.5 本文主要研究内容 17-19 第二章 微纳尺度接触力学理论 19-31 2.1 接触力学理论 19-23 2.1.1 赫兹接触理论 19-21 2.1.2 Bradley黏附模型 21 2.1.3 Hamaker假设黏附模型 21-22 2.1.4 JKR接触模型 22 2.1.5 DMT接触模型 22 2.1.6 Tabor数 22-23 2.2 微纳尺度接触过程力学特性的理论计算 23-24 2.3 微纳尺度滑动接触过程力学特性的理论计算 24-25 2.4 探针顶端曲率半径对实验结果的影响 25-27 2.5 晶向指数和晶面指数 27-30 2.5.1 晶向和晶面 27-28 2.5.2 晶向指数和晶面指数的确定 28-30 2.6 本章小结 30-31 第三章 不同晶向单晶硅接触力学行为实验 31-45 3.1 引言 31 3.2 晶向单晶硅接触力学行为实验 31-36 3.2.1 不同载荷条件的接触过程实验 31-33 3.2.2 不同接触深度条件的接触过程实验 33-36 3.3 ,,晶向单晶硅接触力学行为实验 36-44 3.3.1 接触深度30nm条件下的接触过程实验 36-37 3.3.2 接触深度70nm条件下的接触过程实验 37-38 3.3.3 接触深度100nm条件下的接触过程实验 38-39 3.3.4 接触深度500nm条件下的接触过程实验 39-40 3.3.5 接触深度1000nm条件下的接触过程实验 40-42 3.3.6 接触深度2000nm条件下的接触过程实验 42-44 3.4 本章小结 44-45 第四章 不同晶向单晶硅接触滑动力学行为实验 45-53 4.1 引言 45 4.2 5mN载荷条件下三种晶向单晶硅接触滑动实验 45-49 4.3 50mN载荷条件下三种晶向单晶硅接触滑动实验 49-51 4.4 本章小结 51-53 第五章 不同晶向单晶铜接触力学行为实验 53-61 5.1 引言 53 5.2 ,,晶向单晶铜接触力学行为实验 53-59 5.2.1 接触深度100nm条件下的接触过程实验 53-54 5.2.2 接触深度500nm条件下的接触过程实验 54-55 5.2.3 接触深度1000nm条件下的接触过程实验 55-57 5.2.4 接触深度2000nm条件下的接触过程实验 57-58 5.2.5 三种晶向单晶铜纳米压痕仪压痕图片 58-59 5.3 本章小结 59-61 第六章 不同晶向单晶铜接触滑动力学行为实验 61-71 6.1 引言 61 6.2 500μN载荷条件下三种晶向单晶铜接触滑动实验 61-65 6.3 5mN载荷条件下三种晶向单晶铜接触滑动实验 65-67 6.4 50mN载荷条件下三种晶向单晶铜接触滑动实验 67-69 6.6 本章小结 69-71 第七章 全文总结与工作展望 71-73 7.1 全文主要工作总结 71-72 7.2 后续工作研究建议与展望 72-73 致谢 73-75 参考文献 75-79 附录A:实验仪器及实验过程附图 79-81 附录B:本人在攻读硕士学位期间的科研情况 81
|
相似论文
- 动物足垫表面形貌粘着摩擦机理研究,TH117.1
- Fe-Mn-Si-Al TRIP/TWIP钢组织及性能的研究,TG142.33
- MEMS圆片级真空度检测器件的研究,TB77
- 基于TSV的MEMS圆片级真空封装关键技术的研究,TP211.4
- 面向精化的表面微加工MEMS建模及可制造性分析,TP211.4
- MEMS晶圆级真空封装结构设计与工艺集成,TN305
- 装有纵向涡流产生器的矩形微通道内的传热与流动的实验和模拟研究,TK124
- C60分子在Si(111)-7×7表面上的生长控制及其纳米摩擦学性质研究,O484.1
- 相容性高分子体系界面相互扩散行为的原子力显微镜研究,O647.2
- 微悬臂梁机电系统的动力学特性研究,TH703
- 基于APTES和蛋白A联合固定化技术的乙肝病毒免疫生物传感器敏感膜的制作研究,TP212.3
- 聚酰胺—胺导致的DNA凝聚以及金属表面H~-光剥离的研究,Q523
- 基于原子力显微镜的薄膜涂层界面观测及变形特性的研究,O484.2
- 原子力显微镜研究λ-DNA-组蛋白的相互作用,Q51
- 黄原胶分子自组装行为的原子力显微镜研究,O561
- 基于原子力显微镜的扫描探针平版印刷术的研究,TS825
- 基于AFM和DIC的纳米尺度变形测量技术研究,TG806
- 铜的电化学机械平整工艺优化及机理研究,TG174.42
- 二氧化硅胶体探针微球磨损过程的原子力显微镜研究,TB302.3
- 银离子、银纳米颗粒对细菌影响的显微成像研究,TB383.1
- 基于微纳结构的舰船仿生减阻研究,U674.701
中图分类: > 工业技术 > 机械、仪表工业 > 机械仪表工业研究方法、工作方法 > 机电一体化
© 2012 www.xueweilunwen.com
|