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SOI横向高压器件纵向耐压理论与新结构

作　者: 胡盛东
导　师: 李肇基
学　校: 电子科技大学
专　业: 微电子学与固体电子学
关键词: ENDIF SOI 击穿电压 硅临界场 界面电荷 介质场
分类号: TN386
类　型: 博士论文
年　份: 2010年
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内容摘要


SOI(Silicon On Insulator)即“绝缘体上的硅”被称为二十一世纪的硅集成技术,其独特的结构带来隔离性能好、漏电流小、速度快、抗辐照和功耗低等优点,充分发挥了硅集成电路技术的潜力,特别是SOI高压集成电路(High Voltage Integrated Circuit,HVIC)在未来空天抗辐照领域具有特殊作用,因而得以广泛发展和应用。SOI横向高压器件作为HVIC的基石,由于介质层阻止了其耗尽区向衬底层扩展,使得习用的器件纵向耐压仅由顶层硅和介质层承担。而因隔离和散热的限制,顶层硅和介质层都不能太厚,同时由界面处无电荷高斯定理,使得器件击穿时的介质层电场仅为硅临界场的3倍即100V/μm左右,远未达到实际常用介质材料如SiO2的临界场600V/μm,所以SOI横向高压器件纵向耐压较低,限制了HVIC的应用和发展,目前投入应用的还没有突破600V的瓶颈。对此,国内外众多学者进行了深入研究,当前工作主要集中在新理论模型和新器件结构两个方面。本文在对习用的SOI横向高压器件研究的基础上,围绕纵向耐压新理论、新模型和新器件结构进行研究。完善一个统一的纵向耐压新理论-介质场增强(ENhanced DIelectric layer Field,ENDIF)普适理论;首次建立一项新的电场模型-基于阈值能量经典雪崩击穿理论的硅临界击穿电场与其厚度定量关系模型;在ENIDF指导下提出两类电荷型SOI高压器件新结构-电荷岛型高压器件和复合介质埋层高压器件。第一,完善介质场增强ENDIF理论,是优化设计SOI横向高压器件纵向耐压的普适理论。该理论基于介质场临界化的思想,通过增强介质层电场而提高SOI器件的纵向击穿电压。根据包含界面电荷的高斯定理,ENDIF给出增强介质层电场的三类技术:采用具有可变高临界电场的超薄顶层硅;引入低介电系数介质埋层;在介质层界面引入电荷。用ENDIF对现有典型纵向耐压结构进行理论上的概括与解释,并用以指导新的器件结构设计。ENDIF理论是新的高压SOI器件击穿电压终端理论,它突破了传统SOI横向高压器件的局限。第二,首次建立硅临界电场与其厚度定量关系解析模型。基于阈值能量经典雪崩击穿理论,选择计及阈值能量的电离率公式,首次推导出适用于厚、薄硅层的硅临界电场与其厚度以及适用于高、低掺杂的硅临界电场与其掺杂浓度的新定量关系模型,获得了超薄硅层或者超高浓度情况下远高于常规30V/μm的硅临界电场,并由此获得SOI高压器件的介质场与纵向耐压的统一解析模型。讨论纳米级超薄硅层的临界场与电离率弛豫关系半经典模型。最后将该研究方法推广应用于其他半导体材料及器件。第三,在ENDIF指导下,提出两类新的电荷型介质场增强高压器件-具有界面电荷岛的系列高压器件和具有复合埋层的SOI高压器件。1)具有界面电荷岛的系列高压器件(Charge Islands,CI)。该类器件在介质层界面注入高浓度掺杂区,未耗尽高掺杂区内的电离杂质库仑力以及电场力的综合作用将在界面束缚电荷,利用界面电荷对介质场的增强作用和对顶层硅电场的削弱作用来提高器件耐压。主要包括:(1)界面电荷岛SOI高压器件(CI SOI),在5μm顶层硅、1μm介质层和60μm漂移区获得了606V的高压,介质场达582V/μm;(2)界面电荷岛部分SOI高压器件(CI PSOI),求解二维泊松方程推导此类结构纵向界面电场解析模型,获得631V高压,其最高表面温度分别比常规SOI和PSOI结构降低14.91K和7.66K;(3)改进型的界面电荷岛部分SOI高压器件(ICI PSOI),在80μm漂移区和20μm硅窗口上获得耐压663V的ICI PSOI,较相同尺寸CI PSOI提高85V,同时保持较低的自热效应;(4)基于ESIMOX技术的CI SOI高压器件,在2μm顶层硅、0.375μm介质层和15μm漂移区上获得了230V的耐压,远高于常规结构;(5)双面界面电荷岛SOI高压器件(DCI PSOI),获得了750V的耐压,高于相同尺寸下单面电荷岛结构的685V及常规SOI结构的206V。2)复合埋层的SOI高压器件(SOI with Composite Buried Layer,CBL SOI)。该类结构的介质埋层包含两层氧化层,两层埋氧之间填充多晶,利用两层埋氧承受耐压,且多晶硅下界面的电荷增强了第二埋氧层的电场,从而提高器件耐压。主要包括:(1)单窗口双埋层SOI高压器件(SWCBL SOI),该结构第一埋层开有一个硅窗口,获得865V的高压,高于相同尺寸常规SOI结构232V;(2)双窗口双埋层SOI高压器件(DWCBL SOI),该结构第一层埋氧层开有两个窗口,并且上下两个埋氧层相连。在20μm顶层硅、2μm第一埋氧层、1μm第二埋氧层和80μm漂移区上获得了1040V的高压,在保持高耐压的同时具有较低的自热效应。在对SWCBL SOI耐压机理研究的基础上,对其进行实验研制。详细设计实验方案,在2.5μm第一埋氧层、0.5μm第二埋氧层和80μm漂移区上研制了耐压达761V的SOI LDMOS器件,突破了实用SOI器件耐压不超过600V的瓶颈。

全文目录


摘要  5-7
ABSTRACT  7-17
第一章 绪论  17-33
  1.1 高压SOI 器件技术概述  17-21
  1.2 SOI 横向高压器件的耐压技术发展  21-30
    1.2.1 耐压模型发展  21-22
    1.2.2 耐压技术发展  22-30
  1.3 本文的主要工作和创新点  30-33
第二章 SOI 横向高压器件介质场增强理论  33-47
  2.1 概述  33-35
  2.2 介质场增强理论  35-38
  2.3 基于介质场增强理论的三类技术  38-45
    2.3.1 采用具有可变高临界电场的薄硅层  39
    2.3.2 将低k 介质引入介质埋层  39-43
    2.3.3 在介质层界面引入电荷  43-45
  2.4 介质场增强理论的普适性  45-46
    2.4.1 介质场增强理论指导新器件结构的设计  45-46
    2.4.2 介质场理论对现有纵向耐压新结构进行理论概括和解释  46
  2.5 小结  46-47
第三章 薄硅层临界电场理论与薄层SOI 高压器件  47-70
  3.1 引言  47
  3.2 硅临界电场阈值能量模型  47-53
    3.2.1 计及阈值能量的电离率  47-49
    3.2.2 硅临界击穿电场与其厚度定量关系  49-51
    3.2.3 物理机理  51-53
  3.3 硅临界电场与掺杂浓度的关系  53-56
  3.4 硅临界电场与电离率弛豫模型  56-57
  3.5 薄硅层SOI 高压器件  57-62
    3.5.1 SOI 高压器件介质场与顶层硅厚度关系  58-60
    3.5.2 SOI 高压器件纵向耐压与顶层硅及介质层厚度定量关系  60-62
  3.6 薄硅层SOI 高压器件高耐压的实现  62-68
    3.6.1 漂移区线性掺杂  62-63
    3.6.2 漂移区阶梯掺杂  63-65
    3.6.3 图形化的介质埋层  65-68
  3.7 临界电场模型的普适性  68-69
  3.8 小结  69-70
第四章 基于ENDIF 的界面电荷岛型SOI 高压器件  70-105
  4.1 界面电荷岛SOI（CI SOI）高压器件  70-79
    4.1.1 CI SOI 结构与机理  70-72
    4.1.2 击穿电压与器件结构参数的关系  72-78
    4.1.3 基于SDB 技术的电荷岛SOI 高压器件的工艺实现  78-79
  4.2 界面电荷岛部分SOI（CI PSOI）高压器件  79-88
    4.2.1 CI PSOI 结构与界面电场模型  80-82
    4.2.2 击穿电压与结构参数的关系  82-88
    4.2.3 CI PSOI 高压器件材料制备  88
  4.3 ICI PSOI 高压器件  88-96
    4.3.1 ICI PSOI 结构与机理  89-93
    4.3.2 击穿电压与结构参数的关系  93-95
    4.3.3 ICI PSOI 高压器件材料制备  95-96
  4.4 基于ESIMOX 技术的大于200V 的CI SOI 器件  96-99
    4.4.1 击穿电压与结构参数的关系  96-98
    4.4.2 基于ESIMOX 技术的CI SOI 的材料制备  98-99
  4.5 具有双面界面电荷岛的SOI 高压器件  99-103
  4.6 小结  103-105
第五章 基于ENDIF 的复合介质埋层SOI 高压器件  105-131
  5.1 单窗口复合埋层SOI 高压器件  105-113
    5.1.1 器件结构与耐压机理  105-108
    5.1.2 击穿电压与器件结构参数的关系  108-113
  5.2 双窗口复合介质埋层SOI 高压器件  113-116
  5.3 复合介质埋层SOI 高压器件的研制  116-129
    5.3.1 实验方案  116-126
    5.3.2 实验结果  126-129
  5.4 小结  129-131
第六章 结论  131-133
  6.1 结论  131-132
  6.2 下一步工作  132-133
致谢  133-134
参考文献  134-146
个人简历  146
科研情况  146
发表学术论文  146-148
专利及科技成果鉴定  148
获奖情况  148-149

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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 场效应器件
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