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高亮度荧光屏制造技术研究

作　者: 张成群
导　师: 邸旭；李承龙
学　校: 长春理工大学
专　业: 光学工程
关键词: 高亮度荧光屏稀土荧光粉离心沉淀法
分类号: TN873
类　型: 硕士论文
年　份: 2006年
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内容摘要

高亮度是未来CRT显示器的主要发展方向之一，本文主要从发光材料荧光粉及荧光屏制造工艺两方面对高亮度荧光屏的制作进行研究。本文在对各类荧光粉发光机理分析研究的基础上，通过性能对比试验，选用了新型稀土荧光粉作为研制高亮度荧光屏的发光材料。在对各种荧光屏制造工艺进行分析比较后，选用了沉淀法制屏工艺，并试验成功了离心沉淀法荧光粉涂敷新技术，采用该新技术，可显著提高荧光屏的性能指标和生产效率。通过大量工艺试验，选用优化的荧光粉粒度、荧光粉厚度以及分散剂和胶凝剂的用量等工艺参数，研制出了高亮度耐灼烧的高性能荧光屏。高亮度荧光屏光点亮度达到18000cd／m~2，分辨率达到0.022mm，荧光屏耐灼烧能力显著增强，未发现灼伤现象。随整机(CRT)通过了低温、高温、湿热、冲击、撞击、振动等试验。

全文目录

摘要  4-5
ABSTRACT  5-7
第一章绪论  7-10
  1.1 引言  7-8
  1.2 研究概况  8-9
  1.3 本课题研究的主要内容  9-10
第二章影响荧光屏亮度的因素  10-15
  2.1 CRT显示器的亮度  10
  2.2 影响荧光屏亮度的因素  10-14
  2.3 提高荧光屏亮度的途径  14-15
第三章荧光粉  15-27
  3.1 CRT对荧光粉的一般要求  15-18
  3.2 常用的ZnS型荧光粉  18-21
  3.3 新型稀土荧光粉  21-24
  3.4 新型稀土荧光粉的性能试验  24-27
第四章高亮度荧光屏的制造工艺  27-41
  4.1 几种常见的荧光粉涂敷工艺  27-30
  4.2 沉淀法荧光粉涂敷工艺  30-37
  4.3 离心沉淀法荧光粉涂敷新技术  37-39
  4.4 镀铝工艺  39-41
第五章高亮度荧光屏的检测  41-44
  5.1 高亮度荧光屏的性能检测  41-42
  5.2 高亮度荧光屏的环境试验  42-44
结论  44-45
致谢  45-46
参考文献  46-47

高亮度荧光屏制造技术研究

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