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印象管理视角下的自嘲
作 者: 王俊仙
导 师: 吴亚欣
学 校: 山西大学
专 业: 外国语言学及应用语言学
关键词: 自嘲 印象管理 自我呈现 印象动机 印象建构
分类号: H030
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
自嘲是一种常见的交际策略,它对交际的顺利进行起着重要的作用。然而研究自嘲的学者却不多。目前自嘲的研究主要集中在文学、语言学和社会学这三个角度。通过分析前人在自嘲方面做出的研究,不难发现,前人没有探索说话人采用自嘲的内在原因。换句话说,促使说话人在交际中使用自嘲的内在原因的研究还是一个空白。鉴于这一点,本文将在Leary和Kowalski提出的印象管理双成分模型的基础上定性地、系统全面地探索说话人在交际中采用自嘲的内在原因。Leary和Kowalski认为印象管理包括两个不连续的过程:印象动机与印象建构。印象动机是指个人试图控制他人对自己的印象的愿望或动机;而印象建构则是指个体决定给他人产生什么样的印象,并如何产生这种印象。本研究主要研究说话人采用自嘲的印象动机与印象建构。本文的语料主要来源于期刊文章的引例和日常会话等。在对自嘲进行研究之前,根据本文研究的角度尤其是考虑到跨学科研究的特点,并通过对语料的分析,本文首先给自嘲做出一个定义。我们认为自嘲应该具有以下两个特点:(1)采用幽默的话语;(2)是一种交际策略。研究发现:促使说话人采用自嘲的主要动机是最大限度地赢得期望的奖赏和/或最小限度地减少预料的惩罚(Schlenker,1980)。具体来说,说话人采用自嘲是为了获得有利的社会和物质结果(如赞许、合作伙伴、信任、尊敬、喜爱、某物、改善现状),建立和维护自我(包括自尊和身份)和控制情感。说话人试图给他人留下的印象主要为个性特征,如幽默、乐观、自信和机智等。通常情况下,说话人通过自嘲其自身外表特征、失误行为或所处的尴尬境地来产生上述印象。本文较系统地解释了日常交际中促使人们使用自嘲的印象动机和印象建构,从而更好地帮助人们在某些特定的社会环境中通过自嘲产生预期的印象来增加奖赏和/或减少损失。
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全文目录
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中图分类: > 语言、文字 > 语言学 > 语义学、语用学、词汇学、词义学 > 语义学、语用学
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