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基于ANSYS的杂质诱导光学薄膜激光损伤的研究
作 者: 杨芳芳
导 师: 薛亦渝;夏志林
学 校: 武汉理工大学
专 业: 材料加工工程
关键词: 光学薄膜 激光损伤 非线性吸收 有限元法 损伤阈值
分类号: TB383.2
类 型: 硕士论文
年 份: 2008年
下 载: 195次
引 用: 4次
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内容摘要
光学薄膜几乎是所有光学系统中不可缺少的基本元件,并且也是激光系统中最薄弱的环节之一。前人研究发现,在长脉冲激光作用下,激光薄膜中的杂质吸收是导致薄膜的激光损伤阈值下降的主要因素之一。在杂质诱导激光损伤机制和过程的分析中,薄膜中温度分布的计算非常重要,温度分布计算的合理性影响到后续力学过程分析的可信度。因此,研究激光辐照下,薄膜的杂质吸收问题具有重要的理论价值和实际意义。现有理论在计算杂质以及其附近薄膜基体的温度分布时,忽略了杂质吸收的非线性效应,本文在这方面做了改进。本文根据经典热传导基本方程,建立了激光辐照下,杂质吸收导致周围薄膜和基底中瞬态温度场变化的物理模型,模型假设介质薄膜和基底为各向同性且热力参数不随温度变化,而杂质的热力学参数随温度变化。研究了网格大小和时间步长参数与有限元求解的稳定性关系,建立了优化的有限元模型。在理论分析基础上,模拟了各种形状、取向、尺寸、深度的体内杂质和体表杂质吸收激光能量导致的周围介质薄膜的瞬态温度场。数值模拟结果表明,薄膜在激光单脉冲作用时间内,最高温升不会出现在激光功率密度达到峰值的时刻,而是稍微滞后;对于体内杂质,任何取向的球状、柱状和楔形杂质吸收都会造成薄膜激光损伤阈值的降低,且大而浅的杂质吸收造成的周围薄膜温升较大,从而导致薄膜的激光损伤阈值更低;体内球状和轴向平行于膜厚方向的柱状杂质所导致的周围薄膜的最高温升同其尺寸分别存在一个近似的二次函数关系;对于体表杂质,存在一个尺寸,当杂质处于此尺寸范围之内时会造成薄膜的激光损伤,且此范围可以通过精确的计算机仿真模拟来确定;本文的仿真模拟结果表明,在波长1064nm,脉宽12ns,功率密度2.22×10~6W/cm~2的YAG激光器辐照下,体表球状杂质造成薄膜损伤的半径范围约为50~120nm之间。本文研究的结果可为杂质吸收导致激光薄膜热学损伤的理论研究和数值模拟提供参考,为后续力学过程分析的可信性提供保证,同时也对实际光学薄膜的生产中采取有效措施控制光学薄膜中杂质位置和尺寸有一定的指导意义。
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全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-7 目录 7-9 第1章 绪论 9-13 1.1 研究背景及意义 9-10 1.2 国内外研究进展 10-12 1.3 本论文的主要工作 12 1.4 本章小结 12-13 第2章 光学薄膜激光损伤理论及热学响应 13-23 2.1 光学薄膜激光损伤理论研究 13-21 2.1.1 光学薄膜的温度场理论与计算 15-16 2.1.2 光学薄膜激光损伤阈值 16-18 2.1.3 杂质吸收理论 18-21 2.2 杂质诱导光学薄膜激光损伤的热学响应 21-22 2.3 本章小结 22-23 第3章 有限元法在温度场分析应用的理论基础 23-41 3.1 传热学的基本原理 23-27 3.1.1 传热的基本方式 23-24 3.1.2 温度场的基本概念 24 3.1.3 傅里叶定律和导热微分方程 24-26 3.1.4 导热问题的边界条件 26-27 3.2 有限元法在温度场分析中的应用 27-31 3.2.1 变分原理在求解微分方程中的应用 27-28 3.2.2 加权余量法 28-29 3.2.3 有限元法在温度场分析中的应用 29-31 3.3 有限元分析软件的发展 31-33 3.4 有限元分析软件ANSYS及其特点 33-40 3.4.1 ANSYS的热分析特点 36-37 3.4.2 ANSYS热分析主要步骤 37-40 3.5 本章小结 40-41 第4章 杂质诱导光学薄膜激光损伤的温度场有限元模拟 41-54 4.1 杂质周围薄膜热损伤的热微分方程 41-42 4.2 激光和材料参数的确定 42-44 4.3 三维瞬态温度场的模拟过程 44-49 4.4 三维瞬态温度场的后处理 49-53 4.5 本章小结 53-54 第5章 温度场数值模拟的结果与分析 54-66 5.1 体内杂质周围温度场模拟结果与分析 54-63 5.1.1 尺寸因素对温度场影响模拟结果与分析 54-62 5.1.2 深度因素对温度场影响模拟结果与分析 62-63 5.2 体表杂质周围温度场模拟结果与分析 63-65 5.3 本章小结 65-66 第6章 结论 66-67 参考文献 67-70 致谢 70-71 攻读硕士学位期间发表的论文 71
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中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 特种结构材料
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