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二氧化钒薄膜的制备及其光学特性研究
作 者: 李雪婧
导 师: 冯克成
学 校: 长春理工大学
专 业: 凝聚态物理
关键词: VO2薄膜 热致相变 透射光谱 射频磁控溅射 非理想配比 激光防护
分类号: O484.41
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
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内容摘要
本文采用射频磁控溅射的方法在多种衬底上沉积了高品质的VO2薄膜;分析了VO2薄膜的相变机理以及影响其相变过程的因素;利用X射线衍射仪(XRD)分析了VO2薄膜的微结构,利用傅里叶红外光谱仪对VO2薄膜的光学性能进行了研究,发现在特定温度下VO2薄膜发生相变,其光学性能随之发生突变;并对VO2薄膜在波长为1.319μm激光器照射下的相变特性进行了研究。结果表明,入射到薄膜表面的平均功率为8.9W,光斑直径2mm时,激光出光480ms后,VO2薄膜的温度从室温上升到约100℃,薄膜发生了相变,其对1.319μm激光的透过率从相变前的48%降为相变后的28%。通过以上结果可知,为了进一步提高VO2薄膜的实用性,可以通过降低其相变温度,增大相变前后透过率的变化来实现,达到上述目的的关键在于制备出高品质的VO2薄膜;接着探索了非理想配比对VO2薄膜喇曼光谱的影响,讨论了非理想配比导致VO2薄膜喇曼光谱变化的原因;最后介绍了VO2薄膜的光电特性,并探讨了其在激光防护应用方面的相关问题以及发展前景。
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全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-6 目录 6-7 第一章 绪论 7-14 1.1 引言 7-8 1.2 二氧化钒的原子结构及其性质 8-10 1.3 二氧化钒的应用及研究进展 10-12 1.4 研究内容和目的 12-14 第二章 二氧化钒薄膜的制各和测试 14-21 2.1 二氧化钒薄膜的制备方法 14-15 2.2 利用射频磁控溅射法制备二氧化钒薄膜 15-16 2.3 薄膜测试的仪器和方法 16-21 第三章 二氧化钒薄膜的相变机理研究 21-27 3.1 微观结构对相变的影响 22-24 3.2 掺杂对相变的影响 24-25 3.3 退火对相变的影响 25-26 3.4 本章小结 26-27 第四章 二氧化钒薄膜光学特性的实验研究 27-37 4.1 不同衬底上制备的二氧化钒薄膜相变前后光学特性的测试 27-31 4.2 连续激光辐照下二氧化钒薄膜热致相变的实验研究 31-33 4.3 非理想配比对二氧化钒薄膜喇曼散射的影响 33-36 4.4 本章小结 36-37 第五章 二氧化钒薄膜在激光防护上的应用 37-43 5.1 二氧化钒薄膜的光电特性 38-40 5.2 二氧化钒薄膜在激光防护上的应用前景 40-41 5.3 存在的问题和解决方法 41-43 结论 43-44 致谢 44-45 参考文献 45-46
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的性质 > 光学性质
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