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集成电路布图设计权法律保护研究

作　者: 刘露
导　师: 唐超华
学　校: 湖南大学
专　业: 法律
关键词: 集成电路布图设计权 知识产权 保护模式 专门法保护
分类号: D923.42
类　型: 硕士论文
年　份: 2009年
下　载: 129次
引　用: 4次
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内容摘要


布图设计是集成电路生产过程中的一个重要环节,保护布图设计,关系到集成电路产业的生存和发展。时至今日,如何开发更新更精的集成电路,已经成为各国厂商所瞩目的焦点;如何完善集成电路布图设计权的法律保护,已经成为各国政府和法学界所关注的重点课题之一。集成电路布图设计权是指权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。集成电路布图设计权通常由布图设计的创作人享有,它包括创作人、共同创作人、雇主、受托人等,同时通过继承、转让等方式也可以成为集成电路布图设计权的主体。集成电路布图设计权的客体为符合法定保护条件的布图设计,它属于一种无形的、具有独创性的智力劳动成果。集成电路布图设计权人享有禁止权、复制权、商业利用权、转让权、许可使用权、共有权、放弃权等权利。法律之所以要对集成电路布图设计权进行保护,是因为集成电路布图设计能促进集成电路产业的发展和我国对外经济技术交流,还能完善我国知识产权制度及适应知识产权国际化趋势。集成电路布图设计权具有自己鲜明的特点,它既不具备版权法要求的独创性,也不具备专利权法要求的创造性。它的产生方式和保护制度都有其独特性,因此不能被版权法或专利权法所保护,最好采用单行法来调整和保护。美国是最先立法对集成电路布图设计权进行保护的国家。紧接着,世界上其他国家也相继制定了自己的集成电路布图设计权法,国际组织也通过缔结国际公约的形式来协调各国间的相关立法活动。2001年10月我国制订了《集成电路布图设计保护条例》,将我国的集成电路法律保护提高到国际化水平。除了立法保护外,集成电路布图设计权还可以采取司法保护和行政保护的形式来进行保护。我国集成电路布图设计法的立法尚不完善。我国现行《集成电路布图设计保护条例》在符合TRIPS协议规定的前提下,充分考虑到我国集成电路产业虽然不是很发达的情况下制定的。对于《集成电路布图设计保护条例》已经不能够完全适应市场需要的实际情况,应当采取一些前瞻性的完善措施,包括规定善意侵权人支付合理报酬的标准,增加对善意侵权人的救济措施。同时,建立海关禁令制度、证据保全制度,增加行政制裁、刑事制裁等法律救济手段,以期有利于我国集成电路布图设计保护立法的不断完善。

全文目录


摘要  5-6
ABSTRACT  6-11
第1章 绪论  11-16
  1.1 选题背景及意义  11-12
  1.2 文献综述  12-14
  1.3 研究的内容和方法  14-16
第2章 集成电路布图设计权的基本理论  16-27
  2.1 集成电路布图设计权的界定  16-18
    2.1.1 布图设计权的定义  16
    2.1.2 布图设计权的特点  16-17
    2.1.3 布图设计权的专有性  17-18
  2.2 集成电路布图设计权要件  18-20
    2.2.1 集成电路布图设计权的主体  18
    2.2.2 集成电路布图设计权的客体  18-20
  2.3 集成电路布图设计权的取得方式及保护期限  20-22
    2.3.1 集成电路布图设计权的取得方式  20-22
    2.3.2 集成电路布图设计权的保护期限  22
  2.4 集成电路布图设计权的内容及效力范围  22-27
    2.4.1 布图设计权的内容  22-24
    2.4.2 布图设计权的效力范围  24-27
第3章 域外集成电路布图设计权保护模式分析  27-30
  3.1 美国对集成电路布图设计权的保护模式  27
  3.2 日本对集成电路布图设计权的保护模式  27-28
  3.3 欧共体对集成电路布图设计权的保护模式  28-30
第4章 我国集成电路布图设计权保护的现状  30-39
  4.1 传统的知识产权保护手段难以保护集成电路布图设计权  30-33
  4.2 我国集成电路布图设计权保护的立法现状  33-36
    4.2.1 我国集成电路布图设计权保护溯源  33-34
    4.2.2 我国关于集成电路布图设计权保护的立法分析  34-36
  4.3 我国集成电路布图设计权保护存在的问题和不足  36-39
第5章 完善我国集成电路布图设计权保护的建议  39-44
  5.1 完善我国集成电路布图设计权保护的立法建议  39-42
    5.1.1 提高我国集成电路布图设计权立法层次  39
    5.1.2 我国应采取低标准的职务设计制度  39-40
    5.1.3 明确善意侵权的法律责任  40
    5.1.4 完善民事赔偿规定  40-41
    5.1.5 增加证据保全措施  41-42
  5.2 完善我国集成电路布图设计权保护的行政和刑事措施  42-44
    5.2.1 建立海关禁令制度  42
    5.2.2 完善行政保护手段  42
    5.2.3 增加刑事保护措施  42-44
结论  44-47
参考文献  47-49
致谢  49

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中图分类: > 政治、法律 > 法律 > 中国法律 > 民法 > 知识产权 > 专利法
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