学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
暗场散射技术在晶圆表面缺陷检测中的新应用研究
作 者: 薛珲
导 师: 鲍敏杭
学 校: 复旦大学
专 业: 电子与通信工程
关键词: 无图案晶圆 表面缺陷检测 光学暗场 散射 激光
分类号: TN307
类 型: 硕士论文
年 份: 2008年
下 载: 99次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
随着半导体加工制造技术的飞速发展,晶圆加工的特征尺寸正在从45nm向32nm以下发展,工艺的稳定性和可靠性都面临着严重的挑战。通过晶圆检测来监控工艺,减少产量损失,提高良率,就变得越发重要起来,晶圆缺陷检测的重要性已得到广泛的认知。在各种晶圆缺陷检测的方式之中,无图案晶圆表面缺陷检测一直都占有很重要的地位。本论文在详细介绍利用无图案晶圆表面光学散射来进行缺陷检测的技术(第一、二章)的基础上,研究了现有方法的一些崭新应用。本论文第三章中,对当前新工艺引入的一些新规格薄膜进行了一系列测试,通过尺度量化和稳定性两个方面,证实了现有晶圆表面缺陷检测仪器对这些新规格薄膜的适用性。在本论文第四章,利用软件对底层薄雾散射信号的再分析能力,探索了利用薄雾信号的一些新应用。首先证实了薄雾信号强度与晶圆表面粗糙度之间存在着一定的对应关系,并通过一系列的量测,得出了它们之间关联曲线。这种应用可以成为测量晶圆表面粗糙度的一种新方法。此外,对于一些纳米级别的超微小缺陷,传统的缺陷检测方法无法检测。本论文通过一系列实验,证实通过分析薄雾信号可以实现对这类缺陷的检测。最后在第五章对研究工作进做了总结,并对无图案晶圆表面光学散射技术的下一代发展进行了展望。
|
全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-5 引言 5-6 第一章 光学基础 6-18 第一节 光的散射 6-12 第二节 光的折射与反射 12-14 第三节 晶圆表面微粒散射 14-18 第二章 无图案晶圆表面缺陷检测系统 18-32 第一节 各子系统组成 18-24 第二节 检测结果的量化方式 24-27 第三节 无图案晶圆表面缺陷的种类 27-32 第三章 几种材料薄膜上散射特性及缺陷检测能力测试 32-47 第一节 最小极限检测尺度 32-37 第二节 缺陷尺寸量化关联曲线 37-43 第三节 检测稳定性分析 43-47 第四章 通过薄雾信号对纳米级缺陷检测能力的研究 47-56 第一节 薄雾信号综述 47-48 第二节 软件对薄雾信号的处理分析能力 48-50 第三节 薄雾信号应用的可行性试验 50-56 第五章 总结与展望 56-57 参考文献 57-58 致谢 58-59
|
相似论文
- 超低碳贝氏体钢CO2激光-GMA复合焊接特性研究,TG456.7
- 后向散射式烟尘浓度测量技术的研究,X831
- 基于DSP的离焦信号同步采集与处理技术研究,TH741
- 辐射问题的球谐函数—离散坐标法研究,TK124
- 激光光束偏转设备的机电控制系统设计,TM301.2
- 激光三角测量装置的优化研究,TH744.5
- 激光直写机的光功率控制系统研究与设计,TN249
- 半导体激光器热电控制技术研究,TN248.4
- 相位法激光测距仪信号接收系统研究,TN249
- 二维粗糙表面光散射特性模拟与实验研究,TP391.41
- 基于数学形态学分析的激光散斑特性研究,O29
- 青霉素类抗生素荧光分析方法的研究,R155.5
- 灰黄霉素产生菌FS80的诱变与选育研究,TQ927
- 基于电穿孔技术的活细胞表面增强拉曼光谱研究,R318.51
- 脉冲激光生物硬组织水介导消融特性研究,R318.51
- 工程陶瓷的激光热裂法切割技术研究,TQ174.62
- Bi系Co基氧化物系热电陶瓷与薄膜制备,TQ174.7
- 猪粪堆肥的理化特征及腐熟度评价研究,S141.4
- 掺铁SnO2陶瓷与薄膜的制备研究,TQ174.6
- 激光熔体静电纺丝法制备聚合物微/纳米纤维及其性能研究,TQ340.64
- 可调谐二极管激光吸收光谱技术测定农田氨挥发的初步研究,S158.5
中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 测量和检验
© 2012 www.xueweilunwen.com
|