学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

研究金属有机物化学气相沉积设备控制系统

作　者: 王亮
导　师: 陈明祥；甘志银
学　校: 华中科技大学
专　业: 机械制造及其自动化
关键词: MOCVD PLC控制系统实时控制
分类号: TN304.055
类　型: 硕士论文
年　份: 2011年
下　载: 41次
引　用: 0次
阅　读: 论文下载

内容摘要

金属有机物化学气相沉积(MOCVD: Metal Organic Chemical Vapor Deposition)设备是生产半导体照明芯片最关键的设备。随着半导体照明技术的不断推广,MOCVD设备的市场需求也得到了极大提升,但目前国内生产厂家的MOCVD设备主要依赖于进口,所以研发出具有自主知识产权的MOCVD设备不仅具有国家层面的战略意义,也具有很大的市场价值。本论文的主要工作是开发MOCVD控制系统,此控制系统由上位机、可编程逻辑控制器(PLC)、触摸屏以及控制流量、压力、温度、速度和开关量的现场仪表构成。首先探讨了MOCVD设备中用于精确控制流量、压力、温度的关键控制技术,并对这些控制技术进行了实验验证。然后对设计的MOCVD设备控制系统进行了详细说明,着重讨论了PLC控制系统的设计方案以及PLC与现场仪表的通讯程序设计。最后对当前最新的自动化控制技术进行了分析,并探讨了这些技术用于MOCVD设备控制系统的可行性。此套控制系统已成功应用于昭信开发的MOCVD设备上,经过实际运行证明此套控制系统功能强大,操作简单,运行稳定可靠。

全文目录

相似论文

基于西门子PLC的自动化立体仓库系统设计与实现,TP273
MOCVD法氧化锌薄膜材料生长,TN304.055
氧化锌薄膜晶体管的制备与研究,TN321.5
回转干燥窑的建模与智能控制,TP273.5
氧化锌基紫外探测器的制备与研究,TN23
GaN薄膜位错对载流子性能影响的研究,TN304.055
GaN薄膜的MOCVD制备法及其表征,TN304.055
MgZnO日盲紫外探测器的制备和性能研究,TN23
MOCVD温度控制方法研究,TP273
基于PLC的第二代MOCVD控制系统设计与研究,TP273
第二代MOCVD控制系统方法研究,TP273.5
PLC系统在阳极帽机上的应用与研究,TM571.61
基于iFIX及PLC的电镀流水线控制系统研究,TQ153
反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器输运过程的数值模拟,TK17
学位论文题目氮化镓有机化合物气相淀积（GaN MOCVD）设备控制系统研究,TP273
MOCVD控制系统的优化设计,TP273.5
MOCVD系统温度控制算法研究,TP273
基于ANSYS的MOCVD反应室有限元分析,TN304.055
高压氢处理对ZnO薄膜性能的影响及SiC衬底GaN基LED的制备,O484.4
MOCVD制备Cu掺杂ZnO薄膜及其同质结器件的性质研究,TN304.055