学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
Nd:YAG激光照射制备SiC纳米晶须的研究
作 者: 袁鑫
导 师: 赵剑峰
学 校: 南京航空航天大学
专 业: 机械制造及其自动化
关键词: 激光照射 SiC晶须 温度场 生长机理 粘结剂
分类号: TB383.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2010年
下 载: 44次
引 用: 1次
阅 读: 论文下载
内容摘要
激光加工,以激光作为热源,具有瞬时高能量密度输出及超快加热效应,已在纳米材料制备领域获得广泛重视。激光与材料相互作用时,空间呈高斯分布,并形成梯度分布的温度场,使得材料制备亦呈现梯度分布。本文以Nd:YAG激光为热源,以SiC纳米颗粒材料为前驱体,进行了激光照射下纳米SiC颗粒原位生长晶须的试验。通过对比Nd:YAG激光器与CO2激光器,探索SiC晶须在激光照射下稳定生长的工艺参数及生长机理。所完成的主要工作如下:1.对比分析CO2激光与Nd:YAG激光在波长、空间分布、激光工作模式及材料吸收率方面的异同。2.以CO2激光为例,简化激光束为基模高斯光束,建立激光照射纳米SiC模型,并使用Ansys软件对该过程温度场进行仿真分析。分析温度场可用于指导试验中激光参数的选择。3.以Nd:YAG激光作为热源,采用激光与材料照射表面相互垂直的方式,进行纳米SiC颗粒照射试验,优化参数配置,进而找出最优参数组合。同时,对样品照射层进行扫描电镜及X射线衍射分析,结合CO2激光照射试验,参照对比,初步分析了照射层不同微观形貌的形成机制。4.按晶须生长的四个阶段(晶须晶核的形成、晶须生长的初级阶段、晶须生长的二次增厚阶段、晶须停止生长阶段)详细分析晶须生长机理。5.详细分析CO2激光器及Nd:YAG激光器激光参数对SiC晶须生长的影响,深入分析了PVA、PVB、CMC三种粘结剂对晶须生长数量及形态的影响。
|
全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-9 图表清单 9-12 第一章 绪论 12-26 1.1 引言 12-14 1.1.1 纳米技术与材料的新发展 12-13 1.1.2 纳米技术与材料的概念 13 1.1.3 纳米材料的性能 13-14 1.2 一维纳米材料 14-16 1.2.1 一维纳米材料的生长 14-15 1.2.2 一维纳米材料的特性及应用 15-16 1.3 SiC 晶须 16-22 1.3.1 SiC 晶须的性能 17 1.3.2 SiC 晶须的制备方法 17-21 1.3.2.1 固相法 18-19 1.3.2.2 液相法 19-20 1.3.2.3 气相法 20-21 1.3.3 SiC 晶须的生长机理 21-22 1.4 SiC 晶须的应用 22-24 1.5 激光制备碳质纳米材料 24 1.6 本文的主要研究内容 24-26 第二章 激光照射纳米SiC 材料温度场有限元分析 26-44 2.1 激光器输出激光分析 26-29 2.2 激光照射纳米SiC 模型的建立 29-36 2.2.1 几何模型的建立 30-32 2.2.2 物理模型的建立 32-36 2.3 激光照射纳米SiC 模型温度场模拟 36-43 2.3.1 加载求解 36-37 2.3.2 激光工艺参数对温度场的影响 37-43 2.3.2.1 激光功率的影响 37-39 2.3.2.2 激光扫描速度的影响 39-41 2.3.2.3 激光光斑直径的影响 41-43 2.4 本章小结 43-44 第三章 激光照射纳米SiC 原位生长晶须试验 44-60 3.1 纳米SiC 材料试样制备 44-46 3.1.1 不同有机粘结剂的配制 44-45 3.1.2 冷等静压原理及压块素坯成型 45-46 3.2 Nd:YAG 激光照射纳米SiC 试验 46-49 3.3 试件照射层显微观察 49-58 3.3.1 试件照射层相组成 50-51 3.3.2 样件照射层结构分析 51-58 3.4 本章小结 58-60 第四章 激光照射纳米SiC 原位生长晶须机理研究 60-79 4.1 激光照射下纳米SiC 晶须生长机理 60-68 4.1.1 晶须生长的形态 60-63 4.1.1.1 晶体生长速度对实际晶体的影响 60-62 4.1.1.2 晶须的光洁度、长径比和直晶率 62-63 4.1.2 晶须生长的过程 63-68 4.1.2.1 晶须晶核的形成 63-65 4.1.2.2 晶须生长的初级阶段 65-67 4.1.2.3 晶须生长的二次增厚阶段或过生长阶段 67-68 4.1.2.4 晶须停止生长 68 4.2 激光参数对SiC 晶须生长的影响机理 68-74 4.2.1 C0_2 激光器参数对SiC 晶须生长的影响 69-71 4.2.2 Nd:YAG 激光器参数对SiC 晶须生长的影响 71-74 4.3 粘结剂及激光参数对SiC 晶须生长的影响机理 74-78 4.3.1 粘结剂对SiC 晶须生长的影响 74-78 4.3.1.1 照射层的晶须形态 74-76 4.3.1.2 粘结剂对晶须生长机制的影响 76-78 4.4 本章小结 78-79 第五章 总结展望 79-83 5.1 本文工作总结 79-81 5.2 对今后工作的展望 81-83 参考文献 83-87 致谢 87-88 在学期间的研究成果及发表的学术论文 88
|
相似论文
- 基于温度变化的润滑脂对接触疲劳寿命影响的研究,TH117.22
- 碾压混凝土拱坝温度应力仿真分析与分缝设计研究,TV642.2
- 混凝土高拱坝三维非线性有限元坝肩稳定分析研究,TV642.4
- 熔融碳酸盐燃料电池内流动过程数值分析,TM911.4
- 现代化温室温度场数字化模拟研究,S625.51
- 温压炸药爆炸温度场存储测试技术研究,TQ560.7
- 四种粘结剂边缘微渗漏的实验对比研究,R783
- 不同金属基台和粘结剂对氧化锆全瓷冠颜色的影响,R783
- 豚鼠内耳前庭结构三维重建与温度场数值模拟的研究,R764
- 针状焦生焦粉成型工艺及其对炭化制品性能的影响,TQ127.11
- Yb:YAG碟片激光器激光晶体热透镜效应分析,TN248
- 钣金数控切割三维仿真研究,TG48
- MEMS加速度计温度场及残余应力模型研究,TH824.4
- 基于温度场数字重建的建筑群能量传递监测技术研究,TU111
- 超临界汽轮机转子热—流耦合问题的数值分析,TK261
- 晶体加热炉三维温度场建模与可视化方法研究,TP391.41
- 红外多光谱图像仿真研究,TP391.9
- 热丝TIG焊热丝温度分析及温度场模拟,TG422.3
- 连续热镀锌带钢的稳定传输、传热及组织转变行为研究,TK124
- 光伏材料氢化纳米硅中成键氢对材料结构及缺陷的影响,TB383.1
- 货物不同摆放形式下冷库内气流组织的模拟研究,TB657.1
中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 特种结构材料
© 2012 www.xueweilunwen.com
|