学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
ZnO及V、Al掺杂ZnO薄膜的发光性能研究
作 者: 张丽亭
导 师: 张伟风;张杨
学 校: 河南大学
专 业: 凝聚态物理
关键词: ZnO薄膜 溶胶-凝胶 掺杂 光致发光 表面光电压
分类号: O484
类 型: 硕士论文
年 份: 2007年
下 载: 189次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
ZnO是一种宽带隙半导体材料,室温下带隙宽度为3.37 eV,激子束缚能高达60 meV,明显高于室温下约26 meV的热动能,从而具有优异的紫外发光性能。ZnO作为新一代抗辐射、高频、大功率和高密度紫外发光器件和光探测器件的重要候选材料,引起了人们的广泛关注和深入研究。近年来,人们对ZnO薄膜的研究在实验和理论方面都取得了显著的进展,但对ZnO绿带发射机制研究、生长工艺改进、提高薄膜质量和稳定性、改善薄膜的发光性能等方面还需要进一步研究和探讨。在ZnO的诸多制备方法中,溶胶-凝胶法具有合成温度低、原料丰富低廉、化学计量比较准确、工艺简单、容易添加掺杂剂和大面积成膜等优点而得到了广泛应用。本论文采用溶胶-凝胶法制备了纯的及V、Al掺杂ZnO薄膜,对制各样品的结构、发光机理及工艺进行研究,深入探讨了制备工艺、样品后退火处理及掺杂与ZnO薄膜的成膜质量和发光性能之间的关系,初步探索了发光性能优良的ZnO薄膜的最优工艺参数;并从发光机理的角度探讨了制备过程和掺杂对ZnO薄膜结构与发光性能的影响。ZnO薄膜的发光特性与其结晶状况及本征缺陷密度密切相关,退火改善了薄膜的结晶质量,但较高的退火温度使样品的结晶性提高的同时,也使样品中的缺陷增多,从而导致与缺陷态有关的发光几率也相应的增加。研究结果表明,结晶温度控制在550℃左右最好。值得注意的是,后退火通入氧气时绿带峰的强度相对未通入氧气的有所降低,紫外发光峰的强度增大。分析表明由缺陷产生的绿带峰与V_o和Zn_i等缺陷的浓度有关。未经高温退火时,V的掺入使ZnO结晶质量降低,并引入了发光焠灭中心,使紫外发光峰和绿带发光峰强度都大幅度降低。V掺杂样品经800℃退火处理后,结晶质量相对未掺杂样品变好并表现出与未掺V样品更优异的发光性质,即紫外发光峰的强度高于绿带发光峰,说明V掺杂使绿带发光峰对应的缺陷减少,抑制了绿带的发射。另一方面,高温处理使V掺入引起的焠灭中心减少,辐射复合率增大从而使紫外发射效率提高。对Al掺杂ZnO薄膜在Si和石英衬底研究表明,衬底和掺杂浓度对薄膜结晶状况和发光性能具有重要影响。论文还对ZnO纳米粉末的光致发光性能和表面光电压性质进行了初步的研究。
|
全文目录
摘要 3-5 Abstract 5-9 第1章 绪论 9-26 1.1 课题背景 10-16 1.1.1 ZnO 材料的研究进展 10-14 1.1.2 ZnO 的发光机理及研究现状 14-16 1.2 ZnO 材料的性质及应用 16-21 1.2.1 ZnO 的结构特性 16-18 1.2.2 ZnO 材料的性质 18-20 1.2.3 ZnO 材料的主要应用 20-21 1.3 ZnO 薄膜的生长方法 21 1.4 本论文的主要工作 21-22 参考文献 22-26 第2章 物性测试方法及其原理 26-32 2.1 X 射线衍射 26-28 2.2 扫描电子显微镜 28-29 2.3 紫外-可见近红外分光光度计 29 2.4 荧光分光光度计 29-30 2.5 X 射线光电子能谱 30-31 参考文献 31-32 第3章 溶胶─凝胶法制备 ZnO 薄膜 32-47 3.1 溶胶─凝胶法 32-36 3.1.1 溶胶─凝胶法的特点 32-33 3.1.2 溶胶─凝胶法制备 ZnO 薄膜的机理 33-35 3.1.3 溶胶-凝胶法制备 ZnO 薄膜的工艺流程 35-36 3.2 ZnO 薄膜样品的制备及表征 36-39 3.2.1 实验 36 3.2.2 性能研究 36-39 3.3 退火环境对 ZnO 薄膜的结构特性及发光性质的影响 39-44 3.3.1 退火温度的影响 40-43 3.3.2 氧气氛的影响 43-44 3.4 本章小结 44-45 参考文献 45-47 第4章 掺杂 ZnO 薄膜发光性质研究 47-63 4.1 钒掺杂 ZnO 薄膜 47-54 4.1.1 ZnO:V 薄膜后退火处理前后的微结构与发光特性 48-53 4.1.2 不同钒掺杂浓度对 ZnO 薄膜结构性质和发光性质的影响 53-54 4.2 Al 掺杂 ZnO 薄膜在不同衬底上的结晶性质和发光性质研究 54-59 4.2.1 实验制备 55 4.2.2 结果与讨论 55-59 4.3 本章小结 59-60 参考文献 60-63 第5章 纳米氧化锌粉末的制备及表征 63-73 5.1 实验部分 63-64 5.2 结果与讨论 64-71 5.2.1 XRD 表征 64 5.2.2 SEM 表征 64-65 5.2.3 XPS 表征 65-67 5.2.4 SPS 谱 67-69 5.2.5 PL 谱 69-71 5.3 本章小结 71 参考文献 71-73 总结与展望 73-75 硕士期间完成的论文 75-76 致谢 76
|
相似论文
- 钛酸盐光催化剂的制备及光催化分解水性能,O643.36
- 稀土元素掺杂Ca3Co4O9与Ag复合材料的制备及热电性能,TQ174.1
- 溶胶—凝胶AAO模板法制备ITO准一维纳米结构,TB383.1
- 钛酸锶钡铁电薄膜的制备及电热效应,TB383.2
- 静电纺丝法制备TiO2及其光催化行为的研究,O614.411
- 钛酸钡基NTC热敏陶瓷电阻的制备与研究,TQ174.1
- 掺杂锐钛矿型二氧化钛光催化性能的第一性原理计算,O643.36
- Bi、N共掺杂TiO2的制备及性能的研究,O614.411
- 功能化纳米二氧化钛多孔材料的制备、表征及性能研究,TB383.1
- 有序多孔TiO2薄膜的制备及其性能研究,TB383.2
- 一维纳米TiO2的制备及染料废水脱色研究,TB383.1
- 锂离子层状正极材料LiMO2(M=Co,Ni,Mn)的第一性原理的研究,TM912
- 铁、镧掺杂纳米TiO2的制备及光催化性能研究,O614.411
- 石墨烯制备及其缺陷研究,O613.71
- 多维电荷传输基团修饰铱配合物的设计、合成及光电特性,O627.8
- ZnO掺杂效应的第一性原理研究,O614.241
- Tm和Dy掺杂的YSZ涂层制备与发光性能研究,TG174.442
- TiO2光催化剂的掺杂改性及应用,O643.36
- 低温快烧结晶釉的制备与性能,TQ174.65
- 纳米多孔玻璃基复合发光材料的研究,TB383.1
- 纳米氧化锆/钛杂化有机硅环氧高折射率材料的研究,TB383.1
中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学
© 2012 www.xueweilunwen.com
|